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光刻胶市场

光刻胶市场扩增，对光刻胶的总需求不断提升。据估计，2015年**光刻胶市场达73.6亿美元，其中PCB光刻胶占比24.5%，NR9 3000P光刻胶哪家好，LCD光刻胶占26.6%，半导体光刻胶占比24.1%。2010年到2015年期间，**光刻胶市场年复合增长率约为5.8%；据中国产业信息网数据，2015年，PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶的**市场增速均在5%左右。在下游产业的带动下，江瀚咨询预计**光刻胶市场规模在2022年可能突破100亿美元。

光刻胶

光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成，又被称为光致抗蚀剂，这是一种对光非常敏感的化合物。此外，光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。在受到紫外光曝光后，它在显影液中的溶解度会发生变化。

分类

根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。

正胶

曝光前对显影液不可溶，而曝光后变成了可溶的，能得到与掩模板遮光区相同的图形。

优点：分辨率高、对比度好。

缺点：粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。

灵敏度：曝光区域光刻胶*溶解时所需的能量

负胶egative






Photo Resist）

与正胶反之。

优点： 良好的粘附能力和抗刻蚀能力、感光速度快。

缺点： 显影时发生变形和膨胀，导致其分辨率。

灵敏度：保留曝光区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。

光刻胶组分及功能

光引发剂

光引发剂吸收光能（辐射能）后经激发生成活性中间体，并进一步引发聚合反应或其他化学反应，是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。

树脂

光刻胶的基本骨架，是其中占比较大的组分，主要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、曝光前后对溶剂溶解度的变化程度、光学性能、耐老化性、耐蚀刻性、热稳定性等。

溶剂

溶解各组分，NR9 3000P光刻胶厂家，是后续聚合反应的介质，另外可调节成膜。

单体

含有可聚合官能团的小分子，NR9 3000P光刻胶，也称之为活性稀释剂，一般参加光固化反应，可降低光固化体系粘度并调节光固化材料的各种性能。

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