半导体光刻胶供应商-北京赛米莱德公司-光刻胶供应商

光刻胶分类

正性光刻胶和负性光刻胶

光刻胶可依据不同的产品标准进行分类。按照化学反应和显影的原理，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶;如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。

在实际运用过程中，由于负性光刻胶在显影时*发生变形和膨胀的情况，一般情况下分辨率只能达到 2 微米，光刻胶供应商，因此正性光刻胶的应用较为广泛。

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光刻胶介绍

光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中，半导体光刻胶的技术壁垒较高。

从技术水平来看，在PCB领域，国产光刻胶具备了一定的技术和量产能力，正向光刻胶供应商，已经实现对主流厂商大批量供货。

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光刻胶

在曝光过程中，正性胶通过感光化学反应，切断树脂聚合体主链和从链之间的联系，半导体光刻胶供应商，达到削弱聚合体的目的，所以曝光后的光刻胶在随后显影处理中溶解度升高。曝光后的光刻胶溶解速度几乎是未曝光的光刻胶溶解速度的10倍。而负性胶，在感光反应过程中主链的随机十字链接较为紧密，并且从链下坠物增长，所以聚合体的溶解度降低。见正性胶在曝光区间显影，负性胶则相反。负性胶由于曝光区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图像为上宽下窄的图像，正负光刻胶供应商，而正性胶相反，为下宽上窄的图像。

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