赛米莱德公司-NR73G 6000P光刻胶哪家好

NR9-1000py

问题回馈：

1．我们是LED制造商，麻烦**几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。

A 据我所知，Futurrex

有几款胶很，NR7-1500P

NR7-3000P是专门为离子蚀刻

设计的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。

2．请问有没有可以替代goodpr1518，Micropure去胶液和goodpr显影液的产品？

A 美国光刻胶，Futurrex

正胶PR1-2000A

， 去胶液RR4，和显影液RD6可以解决以上问题。

3．你们是否有可以替代Shipley

S1805的用于DVD的应用产品？

A 我们建议使用Futurrex

PR1-500A ， 它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，

反射比较少，不需要HMDS，RIE后去除*等~

4． 求助，耐高温的光阻是那一种？

A Futurrex， NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻)，再经过HMCTS

silyiation process，可以达到耐高温200度，PSPI透明polyimide，可耐高温250度以上。

5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？

A Futurrex ， NR4-8000P比干膜，NR73G 6000P光刻胶厂家，和其他市面上的湿膜较加适合，和理想。

6．请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合？

A 可以考虑使用Futurrex

，正型光阻PR1，负型光阻用NR1amp;NR7，它们都可以耐高温180度，*可以取代一般制作PATTERN的光阻。

7．请问，那位知道，RIE

Mask，用什么光阻比较好？

A 正型光阻用PR1系列，NR73G 6000P光刻胶公司，负型光阻使用NR5，NR73G 6000P光刻胶，两种都可以耐高温180度。

8．一般厚膜制程中，哪一种光阻适合？

A NR9-8000P有很高的深宽比（**过4：1），一般厚膜以及，MEMS产品的高需求。

9．在DEEP

RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗？

A 建议不使用，因为使用NR5-8000较加理想和适合。

10．我们是OLED，我们有一种制程上需要一层SPACER，NR73G 6000P光刻胶哪家好，那种光阻适合？

A 有一种胶很适合，美国Futurrex

生产的NR1-3000PY

and和

NR1-6000PY，都适合在OLED制程中做spacers

美国Futurre光刻胶

30．想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求，进口的有没有比较好的光刻胶啊？

都可以啊！goodpr是大陆比较多公司采用的，

但是Futurre 光刻胶在国外是比较**气的，包括很多大型企业都有用，膜厚做的也

比较厚从18um-200um都 可以做到，看你对工艺的要求了。

光刻胶**FUTURRE光刻胶产品属性：

1 FUTURRE光刻胶产品简要描述及优势:

1.1 Futurre光刻胶黏附性好，*使用增粘剂（HMDS）

1.2 负性光刻胶常温下可保存3年

1.3 150度烘烤，缩短了烘烤时间

1.4 单次旋涂能够达到100um膜厚

1.5 显影速率快，100微米的膜厚，仅需6~8分钟

11．请教~有没有同时可以满足RIE

process 和Lift-off

process的光阻，谢谢！

A 我们**使用Futurrex

NR1-300PY来满足以上工艺的需求。

12．Futurre光刻胶里，有比较*去除的负光阻吗？

A NR9-系列很*去除，可以满足去胶需要。

13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？

A NR9-8000因为有很高的AR比例，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。

14．传统的Color

filter 制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有较快的方法制作Coior

filter?

A 用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要Reflow， 颜色也不会老化改变，只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！

15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？

A 美国Futurrex公司，专门生产应用化学品的，可以为平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是为平坦化用途设计，闽台企业用的比较多。

16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVE

COATING，那种适合？？

A **美国Futurrex，PC4-10000。

17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？

A 我们公司是使用Futurrex

PC3-6000，可以替代的，而且去除比较*，你可以试用下。

18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗？

A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。

19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？

A 你**实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。

赛米莱德公司-NR73G 6000P光刻胶哪家好由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司为客户提供“光刻胶”等业务，公司拥有“赛米莱德”等**，专注于半导体材料等行业。，在北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：苏经理。

北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区，毗邻中芯**，京东方，RFMD------等半导体、LCD工厂。在半导体，LED，TFT-LCD，太阳能光伏领域具有十年以上的进口设备代理和安装维修经验。是一家致力于LED,MEMS,光电半导体，太阳能光伏工厂及实验室所需设备、耗材的全套解决方案提供商，经销欧美日韩****光电半导体制程仪器设备，零附件，耗材，对中国国内广大客户提供的产品咨询和技术销售服务。一直专注于微电子、微细加工及半导体工艺等领域设备的研发,是此领域集技术开发、技术支持及服务营销为一体的**企业.公司主要产品有Futurrex光刻胶、匀胶机(SpinCoater)、光刻机(曝光机-LithographySystem)、KOSAKA表面轮廓仪等，其广泛应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新能源等领域，适用于大专院校、科研机构和相关行业生产企业进行教学实验、科学研究和产品开发与批量生产，为光电半导体化工实验室全方面解决方案供应商。