广西负性光刻胶-北京赛米莱德有限公司-负性光刻胶公司

硅片模具加工如何选择光刻胶呢？

注意事项：

①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；

②看光刻机型式，若是投影方式，用常规负胶时氮气环境可能会有些问题

③负性胶价格成本低，正性胶较贵；

④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；

⑤健康方面：负性胶为**溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，负性光刻胶公司，对健康、环境无害。

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如何选择光刻胶

光刻胶**满足几个硬性指标要求：高灵敏度，负性光刻胶厂家，高对比度，好的蚀刻阻抗性，高分辨力，易于处理，高纯度，**命周期，低溶解度，低成本和比较高的玻璃化转换温度（Tg）。主要的两个性能是灵敏度和分辨力。大多数光刻胶是无定向的聚合体。当温度**玻璃化转换温度，聚合体中相当多的链条片以分子运动形式出现，因此呈粘性流动。当温度**玻璃化转换温度，链条片段的分子运动停止，聚合体表现为玻璃而不是橡胶。当Tg**室温，胶视为橡胶。当Tg**室温，胶被视为玻璃。由于温度**Tg时，聚合体流动*，广西负性光刻胶，于是加热胶至它的玻璃转化温度一段时间进行退火处理，可达到较稳定的能量状态。在橡胶状态，溶剂可以*从聚合体中去除，如软烘培胶工艺。但此时胶的工作环境需要格外关注，当软化胶温度大于Tg时，它*除去溶剂，但也*混入各种杂质。一般来说，结晶的聚合体不会用来作为胶，因为结晶片的构成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。

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光刻胶

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1959 年被发明以来就成为半导体工业的工艺材料之一。随后光刻胶被改进运用到印制电路板的制造工艺，负性光刻胶哪里有，成为 PCB 生产的重要材料。

二十世纪 90 年代，光刻胶又被运用到平板显示的加工制作，对平板显示面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动作用。

在半导体制造业从微米级、亚微米级、深亚微米级进入到纳米级水平的过程中，光刻胶也起着举足轻重的作用。

总结来说，光刻胶产品种类多、性强，需要长期技术积累，对企业研发人员素质、行业经验、技术储备等都具有较高要求，企业需要具备光化学、**合成、高分子合成、精制提纯、微量分析、性能评价等技术，具有较高的技术壁垒。

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