光刻胶的概述
光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。
光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的部分变得*溶解,经过显影后被溶解,只留下未受光照的部分形成图形;而负胶却恰恰相反,经过曝光后,受到光照的部分会变得不易溶解,经过显影后,留下光照部分形成图形。
负胶在光刻工艺上应用早,其工艺成本低、产量高,但由于它吸收显影液后会膨胀,导致其分辨率(即光刻工艺中所能形成图形)不如正胶,因此对于亚微米甚至较小尺寸的加工技术,主要使用正胶作为光刻胶。
赛米莱德——生产、销售光刻胶,我们公司坚持用户为上帝,想用户之所想,急用户之所急,以诚为本,讲求信誉,以产品求发展,以质量求生存,NR71 3000PY光刻胶公司,我们热诚地欢迎各位同仁合作共创辉煌。光刻胶的性能
赛米莱德生产、销售光刻胶,以下信息由赛米莱德为您提供。
光刻胶产品种类多、性强,NR71 3000PY光刻胶多少钱,是典型的技术密集型行业。不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同,导致对于材料的感光性能、溶解性、耐蚀刻性、耐热性等要求不同。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊,要求使用不同品质等级的光刻胶化学品。
如何选择光刻胶
光刻胶**满足几个硬性指标要求:高灵敏度,高对比度,好的蚀刻阻抗性,高分辨力,易于处理,NR71 3000PY光刻胶,高纯度,**命周期,低溶解度,低成本和比较高的玻璃化转换温度(Tg)。主要的两个性能是灵敏度和分辨力。大多数光刻胶是无定向的聚合体。当温度**玻璃化转换温度,聚合体中相当多的链条片以分子运动形式出现,NR71 3000PY光刻胶价格,因此呈粘性流动。当温度**玻璃化转换温度,链条片段的分子运动停止,聚合体表现为玻璃而不是橡胶。当Tg**室温,胶视为橡胶。当Tg**室温,胶被视为玻璃。由于温度**Tg时,聚合体流动*,于是加热胶至它的玻璃转化温度一段时间进行退火处理,可达到较稳定的能量状态。在橡胶状态,溶剂可以*从聚合体中去除,如软烘培胶工艺。但此时胶的工作环境需要格外关注,当软化胶温度大于Tg时,它*除去溶剂,但也*混入各种杂质。一般来说,结晶的聚合体不会用来作为胶,因为结晶片的构成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。
以上内容由赛米莱德为您提供,希望对**业的朋友有所帮助!
赛米莱德公司-NR71 3000PY光刻胶由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。行路致远,砥砺前行。 北京赛米莱德贸易有限公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴,较矢志成为工业制品具有竞争力的企业,与您一起飞跃,共同成功!
北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区,毗邻中芯**,京东方,RFMD------等半导体、LCD工厂。在半导体,LED,TFT-LCD,太阳能光伏领域具有十年以上的进口设备代理和安装维修经验。是一家致力于LED,MEMS,光电半导体,太阳能光伏工厂及实验室所需设备、耗材的全套解决方案提供商,经销欧美日韩****光电半导体制程仪器设备,零附件,耗材,对中国国内广大客户提供的产品咨询和技术销售服务。一直专注于微电子、微细加工及半导体工艺等领域设备的研发,是此领域集技术开发、技术支持及服务营销为一体的**企业.公司主要产品有Futurrex光刻胶、匀胶机(SpinCoater)、光刻机(曝光机-LithographySystem)、KOSAKA表面轮廓仪等,其广泛应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新能源等领域,适用于大专院校、科研机构和相关行业生产企业进行教学实验、科学研究和产品开发与批量生产,为光电半导体化工实验室全方面解决方案供应商。