NR74g 6000PY光刻胶-赛米莱德

NR77-20000P

正胶PR1-2000A1技术资料

正胶PR1-2000A1是为曝光波长为365 或者436纳米，可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。PR1-2000A1可以满足对附着能力较高的要求，在使用PR1-2000A1时一般不需要增粘剂，NR74g 6000PY光刻胶公司，如HMDS。

相对于其他的光刻胶，PR1-2000A1有如下的一些额外的优势：

PEB，不需要后烘的步骤；

较高的分别率；

**显影；

较强的线宽控制；

蚀刻后去胶效果好；

在室温下有效期长达2年。

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY，NR9i-3000PY有下面的优势： 1. 比较高的光刻速度，可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较*的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很*的去胶 NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的*而设计。

欢迎各界朋友采购合作，请及时拨打电话联系我们

11．请教~有没有同时可以满足RIE

process 和Lift-off

process的光阻，谢谢！

A 我们**使用Futurrex

NR1-300PY来满足以上工艺的需求。

12．Futurre光刻胶里，有比较*去除的负光阻吗？

A NR9-系列很*去除，可以满足去胶需要。

13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？

A NR9-8000因为有很高的AR比例，NR74g 6000PY光刻胶报价，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。

14．传统的Color

filter 制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有较快的方法制作Coior

filter?

A 用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要Reflow， 颜色也不会老化改变，只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！

15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？

A 美国Futurrex公司，专门生产应用化学品的，可以为平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是为平坦化用途设计，闽台企业用的比较多。

16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVE

COATING，那种适合？？

A **美国Futurrex，NR74g 6000PY光刻胶，PC4-10000。

17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，NR74g 6000PY光刻胶厂家，谢谢？

A 我们公司是使用Futurrex

PC3-6000，可以替代的，而且去除比较*，你可以试用下。

18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗？

A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。

19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？

A 你**实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。

NR74g 6000PY光刻胶-赛米莱德由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司是北京 大兴区 ,半导体材料的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、**发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在赛米莱德**携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创赛米莱德较加美好的未来。

北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区，毗邻中芯**，京东方，RFMD------等半导体、LCD工厂。在半导体，LED，TFT-LCD，太阳能光伏领域具有十年以上的进口设备代理和安装维修经验。是一家致力于LED,MEMS,光电半导体，太阳能光伏工厂及实验室所需设备、耗材的全套解决方案提供商，经销欧美日韩****光电半导体制程仪器设备，零附件，耗材，对中国国内广大客户提供的产品咨询和技术销售服务。一直专注于微电子、微细加工及半导体工艺等领域设备的研发,是此领域集技术开发、技术支持及服务营销为一体的**企业.公司主要产品有Futurrex光刻胶、匀胶机(SpinCoater)、光刻机(曝光机-LithographySystem)、KOSAKA表面轮廓仪等，其广泛应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新能源等领域，适用于大专院校、科研机构和相关行业生产企业进行教学实验、科学研究和产品开发与批量生产，为光电半导体化工实验室全方面解决方案供应商。