赛米莱德-NR73G 6000P光刻胶哪里有

PR1-1500A1NR73G 6000P光刻胶

6，NR73G 6000P光刻胶，坚膜

坚膜也叫后烘，是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象，能使胶膜附着能力增强，康腐蚀能力提高。

坚膜温度通常情况**前烘和曝光后烘烤的温度 100-140度 10-30min

7，显影检验

光刻胶钻蚀、图像尺寸变化、套刻对准不良、光刻胶膜损伤、线条是否齐、陡

小孔、小岛。

NR9-3000PY 相对于其他光刻胶具有如下优势：

- 优异的分辨率性能

- **地显影

- 可以通过调节曝光能量很*地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

NR77-25000PNR73G 6000P光刻胶

表征光刻胶特性和性能、质量的参数有以下三个：

(1)光学性质。光刻胶的光学性质包括光敏度和折射率。

(2)力学特性和化学特性。光刻胶的力学特性和化学特性包括胶的固溶度、黏滞度、黏着度、抗蚀(刻蚀、腐蚀)性、热稳定性、流动性和对环境气氛(如氧气)的敏感度。

(3)其他特性。光刻胶的其他特性包括胶的纯度、胶内的金属含量、胶的可应用范围、胶的储存有效期和胶的燃点。

30．想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求，进口的有没有比较好的光刻胶啊？

都可以啊！goodpr是大陆比较多公司采用的，

但是Futurre 光刻胶在国外是比较**气的，NR73G 6000P光刻胶哪里有，包括很多大型企业都有用，膜厚做的也

比较厚从18um-200um都 可以做到，看你对工艺的要求了。

光刻胶**FUTURRE光刻胶产品属性：

1 FUTURRE光刻胶产品简要描述及优势:

1.1 Futurre光刻胶黏附性好，NR73G 6000P光刻胶厂家，*使用增粘剂（HMDS）

1.2 负性光刻胶常温下可保存3年

1.3 150度烘烤，缩短了烘烤时间

1.4 单次旋涂能够达到100um膜厚

1.5 显影速率快，100微米的膜厚，仅需6~8分钟

赛米莱德-NR73G 6000P光刻胶哪里有由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前赛米莱德在工业制品中享有良好的声誉。赛米莱德**全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。赛米莱德全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。

北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区，毗邻中芯**，京东方，RFMD------等半导体、LCD工厂。在半导体，LED，TFT-LCD，太阳能光伏领域具有十年以上的进口设备代理和安装维修经验。是一家致力于LED,MEMS,光电半导体，太阳能光伏工厂及实验室所需设备、耗材的全套解决方案提供商，经销欧美日韩****光电半导体制程仪器设备，零附件，耗材，对中国国内广大客户提供的产品咨询和技术销售服务。一直专注于微电子、微细加工及半导体工艺等领域设备的研发,是此领域集技术开发、技术支持及服务营销为一体的**企业.公司主要产品有Futurrex光刻胶、匀胶机(SpinCoater)、光刻机(曝光机-LithographySystem)、KOSAKA表面轮廓仪等，其广泛应用于微电子、光电子、通讯、微机械、新能源等领域，适用于大专院校、科研机构和相关行业生产企业进行教学实验、科学研究和产品开发与批量生产，为光电半导体化工实验室全方面解决方案供应商。