北京氮化钽靶材定制 TaN靶材

通过射频磁控溅射的方法,采用TaN靶,在石英玻璃基底上成功制备了系列面心立方结构的多晶δ-TaNx薄膜,对薄膜的晶体结构、微观形貌、电学性质进行了系统研究,分析了溅射条件对薄膜结构和电输运性质的影响,并对δ-TaNx薄膜在不同温区的导电机制进行了探讨

研究表明，影响氮化钽薄膜结合力的主要因素为溅射压力和加热温度，氮分压比、溅射电流为次要因素；氮分压对氮化钽薄膜的硬度影响较大

结果表明:随氮分压的增大,Ta N薄膜的微结构明显变化,同时Ta N薄膜的方阻也有显着增大趋势;随着沉积温度的提高,Ta N薄膜的方阻有减小趋势,当温度达到400℃时,制备出了方阻小于100Ω/□的薄膜;随着沉积时间的加长,Ta N薄膜的方阻也出现减小的现象;后制备出工艺稳定性好的方阻50Ω/□的Ta N薄膜

用作超硬质材料添加剂，可制备纯的五氯化钽：用于喷涂，增加变压器、集成线路、二极管的电稳定性

醴陵市利吉升新材料有限公司是专业生产销售高**属材料，合金材料 ， 陶瓷材料等蒸发镀膜材料以及溅射靶材.公司产品广泛应用于半导体、光电、OLED、装饰镀膜、太阳能光伏、磁记录等镀膜领域，公司拥有专业的技术研发人员，拥有经验丰富的镀膜材料生产加工技术人员，长期服务于国家科研项目及**镀膜产业。和多所高校研究所建立长期的合作关系，以较高的性价比，成功发替代了国外进口产品，颇受用户**。