沈阳鹏程真空技术公司-脉冲激光沉积装置多少钱

脉冲激光沉积细节介绍

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（gt;100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。

Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，脉冲激光沉积装置厂家，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，*油的回流对薄膜质量的影响，脉冲激光沉积装置价格，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。

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PLD450型脉冲激光镀膜介绍

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主要用途：　　

用于制备**导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。　　

系统组成:　　

主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。　　

脉冲激光沉积的优点

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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉积速率高，脉冲激光沉积装置，试验*，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；

3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；

4. 发展潜力**，具有较大的兼容性；

5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

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沈阳鹏程真空技术有限责任公司是由集科、工、技、贸为一体的**企业。公司业务部主要分为太阳能发电领域事业部和科学仪器事业部两大部门。太阳能发电领域事业部以致力于光伏发电系统集成研究、光伏设备研发生产为主导。鹏程真空光伏部与国内外多所高校、电力设计研究院、业内企业及相关生产企业建立了战略合作伙伴关系，拥有全套的光伏系统集成设计能力与配套产品供应。科学仪器事业部主要从事研发生产，各类薄膜材料制备设备、纳米材料制备设备、真空冶金设备、太阳能光伏设备、集成电路装备、真空非标系统研发生产、各种实验室特殊需求仪器的制造。