磁控溅射设备价格-磁控溅射设备-沈阳鹏程

自动磁控溅射系统概述

带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6"旋转平台，磁控溅射设备哪家好，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

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双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些？

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产品特点

1：此款镀膜仪配置有两个靶：一个靶配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶配套的是直流电源，磁控溅射设备报价，用于导电材料的溅射镀膜

2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。

3：该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。

磁控溅射“磁控反应”介绍

磁控反应溅射绝缘体看似*，而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面以及靶源表面，从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，磁控溅射设备，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而*阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，多弧，磁控溅射设备价格，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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