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真空镀膜机的操作方法介绍

真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜仪器，首要思路是分成蒸腾和溅射两种。真空镀膜机的应用是很复杂的，用户需求掌握必定的操作常识。下面小编就来详细介绍一下真空镀膜机的操作方法，期望能够协助到我们。

真空镀膜机电控柜操作

1. 开水泵、气源。

2. 开总电源。

3. 开保持泵、真空计电源，真空计档方位V1方位，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。

4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、发动，真空计开关换到V2方位，抽到小于2停止，约需20分钟。

5. 调查涡轮分子泵读数抵达250今后，关予抽，开前机和

高阀持续抽真空，抽真空抵达必定程度后才能开右边的高真空表头，调查真空度。真空抵达2×10-3今后才能开电子枪电源。

离子镀/真空镀膜 
蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图],将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95%）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。
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