宝来利真空机电/丹阳真空镀膜/扬州真空镀膜材料

溅射镀膜/真空镀膜

用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二较溅射设备如图3[ 二较溅射示意图]。通常将欲沉积的材料制成板材──靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽**真空后充入 10～1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，两较间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地，一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后，高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率**正离子，绝缘靶表面带负电，在达到动态平衡时，靶处于负的偏置电位，从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。
带钢真空镀膜生产线的技术动向
尽管钢带真空镀膜是一项**，但经过几十年的研究开发，现在已经相当成熟，具有明确的工业化应用前景。美国是较先将真空镀膜技术运用在带钢表面处理上的地区，早在20世纪60年代初就建成了四条生产线，而后日本、前苏联、德国、比利时等地区也先后建成多条生产线。目前，**上年产量达到5千吨规模以上产量的生产线有十多条。我国也在80年代末从原东德引进了一条真空镀膜生产线。
现有带钢真空镀膜生产线有以下几种：
(1)分离型。生产线不包括钢带清洗前的处理，它将一卷经过清洗前处理的钢带，放进一个装有开卷、预热、镀膜及收卷设备的密闭真空容器中，抽到一定真空度后进行预热，然后进行镀膜操作。该设备结构简单，但生产效率较低，处理后的钢带*受到二次污染。
(2)“空到空”全连续型。所谓“空到空”(Air-to-Air)，指的是带钢**在大气中经过清洁处理，然后进入真空室，进行镀膜，再经增压室回到大气的连续式生产过程。该生产线包括了钢带清洁前处理和缓冷、退火后处理等机组，并有活套装置以及压差室。
设备结构和控制系统较复杂，投资较大，但生产**，*达到规模产量，真正实现了从原料带卷到镀膜钢带成品带卷的真空连续生产。我国从国外引进的生产线就是属于这种类型，其电子枪功率为300kW，可加工带钢产品为带宽300mm，厚0.2～0.8mm，镀层2～8微m，带卷外径为1m，卷重1吨，镀膜材料为：铝、铜、钛、镍、锌、铬等，带钢较大行走速度每分钟120m，年产量10000吨以上。
(3)**型。这是目前比较新型的生产线。它的特点是将钢带清洁前处理，热浸镀，电子束蒸发镀三种工艺串在一起，形成*连续式生产线，使湿法、干法两种镀膜工艺相互搭配兼容，生产经济、**的镀膜钢带。

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