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    在这种情况下，半导体层可以包含非晶硅。尽管未示出，但是栅较线和数据线彼此交叉以限定像素区域，并且形成切换tft以与栅较线和数据线连接。切换tft与作为驱动元件的tfttr连接。此外，还可以形成电力线，所述电力线可以形成为与栅较线和数据线中的一者平行并间隔开；和用于在一帧中保持tfttr的栅较电极的电压的存储电容器。形成有钝化层350以覆盖tfttr，钝化层350包括暴露tfttr的漏电极342的漏较接触孔352。在各像素中单独形成有电极220，电极220通过漏较接触孔352与tfttr的漏电极342连接。电极220可以为阳极，并且可以由具有相对高的功函数的导电材料形成。例如，电极220可以由透明导电材料例如ito或izo形成。可以在电极220下方形成反射电极或反射层。例如，反射电极或反射层可以由铝-钯-铜(apc)合金形成。在钝化层350上形成有堤层360以覆盖电极220的边缘。即，堤层360被定位在像素的边界并且暴露像素中的电极220的中心。堤层360可以省略。在电极220上形成有**发光层290。参照图5，珠海快恢复二极管稳压，**发光层290包括发光部分250，发光部分250包括有eml240；和*二发光部分270，珠海快恢复二极管稳压，*二发光部分270包括有*二eml260，珠海快恢复二极管稳压。例如。乐山稳压二极管原装现货。珠海快恢复二极管稳压

    三pmos管mp3栅较引出二电流镜单元偏置电压为二电流镜单元的九pmos管mp9供电，二电流镜单元镜像的电流在一开关s1、二开关s2和三开关s3都断开时能够使得像素内的五pmos管mp5的源较电压达到0v大小。具体过程为：像素外偏置电压产生模块中通过运放钳位作用将四pmos管mp4的源较电压钳位到0v，将二pmos管mp2的源较电压钳位到步进电压，步进电压的大小即为设置的基准电压vref的电压值。当一开关s1、二开关s2和三开关s3都断开时，钳位到0v的偏置电流通过三pmos管mp3被像素内偏压调节模块的二电流镜单元的pmos管镜像，镜像过来的电流流经像素内的三电阻r3上，从而改变五pmos管mp5的栅较电压，进而将浮动地点的电压钳位到0v，因为0v对浮动地点的电压步进没有影响，所以该电流通路一直保持开启，随后调整一开关s1、二开关s2和三开关s3来调节比例电流镜产生的电流继而调节浮动地的电压为步进电压的整数倍大小。钳位到步进电压的偏置电流通过一pmos管mp1被像素内偏压调节模块的三个宽长比同一pmos管mp1的宽长比比值为1:2:4的pmos管镜像，镜像的电流大小分别为1:2:4，镜像的三条电流通路都汇集到三电阻r3上，每个pmos管下都有开关控制该条通路的导通与关断。上海进口二极管厂家强茂整流二极管原装现货。

    本发明属于集成电路领域与光电领域，涉及一种基于负电源电压对雪崩光电二极管的偏置电压进行调节的电路。背景技术：单光子探测技术是近年来刚刚发展起来的一种基于单光子的新式探测技术，它可以实现对较微弱光信号的检测。在目前所用的光电探测器中，具有单光子探测能力的探测器主要有两种，即光电倍增管(photomultipliertube，pmt)和雪崩光电二极管(avalanchephotodiode，apd)。其中雪崩光电二极管apd(以下简称apd)在红外波段具有功耗低、体积小、工作频谱范围大、工作电压低等优点，因此被广泛应用。雪崩光电二极管apd探测器根据其偏置电压的不同，可分为线性和盖革两种工作模式。工作在盖革模式下的雪崩光电二极管apd被称为单光子雪崩二极管，具有单光子探测能力，被广泛应用于单光子探测技术。单光子探测技术可被用于光子测距、*、荧光寿命测量等各方面。随着对探测器分辨率要求的提高，单光子探测技术正在向集成大阵列方向发展，阵列探测的一致性成为重要指标。apd阵列的灵敏度与偏压相关，但是由于apd阵列存在雪崩击穿电压不均匀分布的问题，因此比较高偏压被阵列中比较低击穿电压的像素所限制，apd阵列中将有大量像素处在偏压不足的状态。

    所述像素外偏置电压产生模块包括一运算放大器、二运算放大器、一pmos管、二pmos管、三pmos管、四pmos管、一电阻、二电阻、一电流源和二电流源，一运算放大器的正相输入端连接基准电压，其反相输入端连接二pmos管的源较和一电流源，其输出端连接一pmos管的栅较；一pmos管的源较连接电源电压，其漏较连接二pmos管的栅较并通过一电阻后连接负电源电压；二运算放大器的正相输入端接地，其反相输入端连接四pmos管的源较和二电流源，其输出端连接三pmos管的栅较；三pmos管的源较连接电源电压，其漏较连接四pmos管的栅较并通过二电阻后连接负电源电压；二pmos管和四pmos管的漏较连接负电源电压；所述像素内偏压调节模块包括一电流镜单元、二电流镜单元、三电阻和五pmos管，所述一电流镜单元用于将流过一pmos管的电流按比例镜像，所述二电流镜单元用于镜像流过三pmos管的电流；五pmos管的栅较连接所述一电流镜单元的输出端和所述二电流镜单元的输出端并通过三电阻后连接负电源电压，其漏较连接负电源电压，其源较输出浮动地电压作为所述雪崩光电二极管的偏置电压。具体的，所述一电流镜单元包括一开关、二开关、三开关、六pmos管、七pmos管和八pmos管。强茂二极管原厂渠道。

    其中a和b分别由式3-1和式3-2表示：[式3-1][式3-2]以及其中r9至r11各自地选自氢、c1-c20烷基、c1-c20烷氧基、c1至c20烷基甲硅烷基、c6-c30芳基、c5-c30杂芳基和胺。8.根据实施方案7所述的**发光二极管，其中所述延迟荧光掺杂剂选自式4：[式4]9.根据实施方案1所述的**发光二极管，其中所述磷光掺杂剂由式5表示：[式5]其中r1至r4各自地选自氢、c1-c20烷基、c1-c20烷氧基、c1至c20烷基甲硅烷基、c6-c30芳基、c5-c30杂芳基和胺，其中r1与r2或r2与r3或r3与r4结合以形成稠合的c6-c30芳族环，以及其中n为1至3的整数。10.根据实施方案9所述的**发光二极管，其中所述磷光掺杂剂选自式6：[式6]11.根据实施方案1所述的**发光二极管，其中所述发光材料层还包含基质。12.根据实施方案11所述的**发光二极管，其中相对于所述基质，所述延迟荧光掺杂剂的重量百分比为20％至70％，以及所述磷光掺杂剂的重量百分比为％至2％。13.根据实施方案11所述的**发光二极管，其中所述基质由式7-1或式7-2表示，[式7-1][式7-2]其中在式7-1中，x为o、s或nr，以及r为c6-c30芳基，其中在式7-1和式7-2中，y为o或s，以及其中在式7-1和式7-2中。捷捷微肖特基二极管原装现货。东莞panjit二极管代理商

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    *二延迟荧光掺杂剂562可以由式1或式3表示，*二磷光掺杂剂564可以由式5表示。*二磷光掺杂剂564相对于*二延迟荧光掺杂剂562的重量百分比等于或小于约5％。例如，*二磷光掺杂剂564相对于*二延迟荧光掺杂剂562的重量百分比可以在约％至％，推荐地约％至％的范围内。尽管未示出，但是*三eml560还可以包含基质。基质可以在*三eml560中具有约50％至80％的重量百分比，并且可以由式7-1或式7-2表示。eml520的基质和*三eml560的基质可以相同或不同。cgl580被定位在发光部分530与*二发光部分550之间，*二cgl590被定位在*二发光部分550与*三发光部分570之间。即，发光部分530和*二发光部分550通过cgl580彼此连接，*二发光部分550和*三发光部分570通过*二cgl590彼此连接。cgl580和*二cgl590各自可以为p-n结型cgl。cgl580包括n型cgl582和p型cgl584，*二cgl590包括n型cgl592和p型cgl594。在cgl580中，n型cgl582被定位在etl536与*二htl552之间，p型cgl584被定位在n型cgl582与*二htl552之间。在*二cgl590中，n型cgl592被定位在*二etl554与*三htl572之间，p型cgl594被定位在n型cgl592与*三htl572之间。在oledd4中。珠海快恢复二极管稳压

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