水净化工艺.净化设备 含硅低介电常数材料

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  名称：饮用水净化工艺及净化设备 
简介： 本技术涉及一种饮用水净化工艺及净化设备，本技术的工艺步骤包括：①向原水中加入混凝剂和复合药剂，使原水中的胶体脱稳与药剂充分混合生成絮凝粒子；②向经过步骤①处理的水中加入助凝剂，使絮凝粒子长大结团凝聚，形成泥浆悬浮层，使泥浆悬浮层进一步阻留水中的絮凝粒子，使水得到澄清；③将经过步骤②处理的水通过滤料层进一步过滤。本技术采用颗粒吸附强化絮凝的工艺方法，使絮凝粒子结团凝聚形成泥浆悬浮层，使水有效地得到澄清。同时采用复合药剂与活性炭联用的方式，大量去除各种对人体有害的微污染物，使水*得到净化。本技术特别是在野战情况下，可以将江、河、湖水进行净化，达到战时或平时饮用水标准，其不但可以供水给作战*、边防哨所，还可以用于各种民用场合。  
 
全文：详细说明书附图共18页
定价：50元 




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名称：一种含硅低介电常数材料炉子固化工艺 
简介： 本技术属于半导体集成电路制造工艺技术领域，具体涉及到低介电材料Silk炉子固化工艺改进。随着器件尺寸愈来愈小，互连RC延迟对器件开启速度影响愈来愈大。目前人们用铜和低介电材料来减少RC互连延迟。Silk是一种新的低介电材料，它在工艺集成过程中还存在一些问题，如Silk旋涂后的固化工艺。这里我们对原有的固化工艺作了改进：将Silk进出炉子的温度从300℃改为360-440℃，实验证明Silk并未被氧化。改进后的工艺不仅提高了产能，而且节约了电能，降低了成本，很适用于大生产线。 
 

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