净化技术的设备发展
对于半导体设备来讲,净化工程技术在微电子技术中起着十分重要的作用。微电子技术的是集成电路,而集成电路的生产对其工艺环境和工艺流程中的净化技术和设备提出了严格的要求。我国“九五”期间大力发展以微电子为**的信息产业。净化工程技术水平在某种意义上已成为衡量一个地区和地区科学技术水平和工业水平的一个重要标志。
净化工程气压规定:
对于大部分洁净空间,为了防止外界污染侵入,需要保持内部的压力(静压)**外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则:
1.洁净空间的压力要**非洁净空间的压力。
2.洁净度级别高的空间的压力要**相邻的洁净度级别低的空间的压力。压力差的维持依靠新风量,无菌洁净室,这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄(或渗透)风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。洁净室中的气流速度规定这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度,在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。对于乱流洁净室
由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度,无菌洁净室怎么用,所以主要用换气次数这一概念,而不直接用速度的概念,无菌洁净室价格,
不过对室内气流速度也有如下要求:
(1)送风口出口气流速度不宜太大,和单纯空调房间相比,要求速度衰减较快,扩散角度较大。
(2)吹过水平面的气流速度(例如侧送时回流速度)不宜太大,以免吹起表面微粒重返气流,而造成再污染,这一速度一般不宜大干0.2m/s。
光学微电子净化工程解决方案:
4、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点
A、无尘车间
洁净度:LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间,其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间,其洁净度一般为万级或十万级。
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