电感耦合等离子体质谱 镀液分析 电感耦合等离子质谱仪

PlasmaMS 300型质谱仪将ICP的高温电离特性与四较杆质谱计的灵敏快速扫描的优点相结合而形成一种新型的有力的元素分析、同位素分析和形态分析技术。该技术具有检出限低、动态线性范围宽、干扰少、分析精度高、速度快、可进行多元素同时测定等优异的分析性能，已从初在地质科学研究的应用迅速发展到环境保护、半导体、生物、、冶金、石油、核材料分析等领域。

**SMAMS 300 在不**业的应用与干扰
地质样品通常难以消解。相比之下，激光消融几乎不需要任何样品制备，仅仅 需要将样品切至适合激光消融池的大小。
在这一领域中，样品多种多样，质谱分布范围很广，因此此类应用为广泛和复杂。在单 个矿物或样品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金属含量，又需要进行同位 素信息扫描。
由于在这类样品中存在着大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在这类地质样品中 常见的干扰就是氧化物干扰和双电荷干扰。
应用领域:
岩石稀土分析和岩石消解 激光消融分析矿物
同位素比例研究地球及外来物质的原始和进化 水沉积物和地下水

钢研纳克同时也是**的标准物质提供商，都提供标样，很多是以混标的形式包含了用户要求浓度的多种元素，可以方便 地用于 **SMAMS 300 分析。
此外您也可以从钢研纳克购买单标---10,000/1,000  ppm的单标母液。
但是，考虑到各个元素自身的物理化学特性，以及它们在酸中的稳定性，或者它们与溶液 中其他元素的共存稳定性等各种特性，在配置混标的过程中必须格外小心。
当配置自用的复合标准品时，应注意
• 此外高浓度能降低分析元素的损失,如瓶壁吸附
• 不是溶液中所有的元素均需要达到10ppm的线性范围
• 也要小心不要混合产生相互反应的元素否则可能产生沉淀,如在S存在下的Ba。
• 在制备标样或者样品的过程中，请确认您的去离子水系统能够正常工作，一 般**纯水的电阻率应该在18.2 MΩ/cm左右。
• 在此过程中使用的试剂例如酸试剂，也应该是纯度的。
• 移液管(pipettes)或其他类似器具不能直接伸入试剂或母液容器里。
• 确保**SMAMS 300的工作容器都是塑料的（例如PFA, FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 或PP），尽量不要用玻璃容器(Pb,Hg等可以用玻璃)。
• 在制备标样或者样品的过程中，尽量减少稀释步骤。
• 应当使用经过校准的微量移液器（例如移液），并且使用一次性塑料头。
• 应当在通风橱里面进行制备，以尽量避免空气流通带来的污染。
• 为了得到的检出限，凡是在制备过程中会与标样或者样品接触的容器和 器具都应当在使用前经过酸液浸泡。

PlasmaMS的质谱干扰消除办法
PlasmaMS 300的另一类主要干扰是质谱干扰。
1.多原子干扰(Polyatomic) – 与目标同位素原子质量重合的多原子离子，所带来的干扰
2. 同量异位素干扰(Isobaric) –与目标同位素原子具有相同质量数的原子带来的干扰(目标 原子与干扰原子的质子数和中子数都不同，但(质子数+中子数)相同)；也包括质荷比相等 的不同元素离子形成的干扰。
多原子离子： 包括氩化合物、氢化物、氧化物
氩化合物的产率可以通过性能选项来降低：例如使用等离子体屏蔽环(PlasmaScreen)和 碰撞反应池(CCT, Collision Cell Technology)。
这些干扰有时是气体引起的：例如进样时候引入的空气、用来维持等离子体燃烧的氩气。 还有的来自于样品基体中的阴离子或者阳离子。
氧化物的产率可以通过调谐来降低：炬管和雾化器的位置、气体流速对氧化物产率的影响 是的。基体引起的干扰很多都是氧化物，尤其是样品中的主量元素，会在距离主量元 素16个amu的位置产生一个氧化物的干扰峰。这样的干扰普遍存在，并且随着基体氧化 物沸点的升高，这样的干扰较加严重。我们可以使用空白扣减来降低这样的干扰。
同量异位素干扰: 这种干扰指的是，存在着和目标元素原子质量相同的干扰离子。要消除同量异位素干扰， 只能是尽可能选择该元素的其它同位素来回避这样的干扰。
还有一类的同质量干扰，如果干扰元素的二级电离电位(Isobaric  interference)**了 氩原子的一级电离电位(15.8ev)，这样的元素原子在ICP中会形成双电荷离子。对于双电 荷离子的干扰，很难消除，但有的时候可以通过调谐来将干扰降低一些。如果可以的话， 通过更换较合适的同位素来解决。
如果用户的目标元素是单同位素元素时，例如As，此时就不能采用更换同位素的办法来 避免干扰。As元素是比较典型的单同位素元素，同时面临着普遍的多原子干扰(40Ar 35Cl)，一旦有氯元素的存在，就存在40Ar 35Cl的干扰。

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