我们供光刻机/四川成都重庆北京 成都鑫南光机械设备有限公司**提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机;在真空器件生产方面使用的排气设备(真空排气台);在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢退火工艺等方面使用的各型真空炉、氢气炉、零件真空储存和真空干燥设备;在电光源产品生产上使用的真空排气机,以上方面设备的设计、制造和安装调试, 公司均有着自己*特的专长 主要技术指标: 1、本机采用双面对准单面曝光方式。 2、基片X、Y、θ对准工作台,X、Y移动:±5mm,θ转角≤±5°。 3、基片与掩膜对准精度(包括与记忆图形的对准精度)≤0.001mm。 4、板架来回翻转重复精度≤0.004mm。 5、采用蝇眼曝光头,曝光面积:≤Φ100mm,光的不均匀性:≤±4%,光强可调,350W直流汞灯。 6、适用于Φ4″、Φ3″、Φ2″基片,配有三种不同的承片台和相对应的板架。 7、显微系统放大倍数:51~32
成都鑫南光机械设备有限公司**提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机;在真空器件生产方面使用的排气设备(真空排气台);在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢退火工艺等方面使用的各型真空炉、氢气炉、零件真空储存和真空干燥设备;在电光源产品生产上使用的真空排气机,以上方面设备的设计、制造和安装调试, 公司均有着自己*特的专长 公司总经理:刘丹毅 销售副总:任