进口化学气相沉积设备哪家好-沈阳鹏程有限公司

ICP刻蚀机的操作及判断

1. 确认万用表工作正常，量程置于200mV。

2.冷探针连接电压表的正电极，热探针与电压表的负极相连。

3.用冷、热探针接触硅片一个边沿不相连的两个点，电压表显示这两点间的电压为正值，说明导电类型为P 型，刻蚀合格。相同的方法检测另外三个边沿的导电类型是否为P型。

4.如果经过检验，任何一个边沿没有刻蚀合格，则这一批硅片需要重新装片，进行刻蚀。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ，服务至上为宗旨。公司生产、销售ICP刻蚀机，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！

方箱PECVD简介

该系统为单室薄膜太阳电池等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺研发设备，用来在硅片上沉积SiOx、SiNx、非晶硅、多晶硅、碳材料等薄膜，进口化学气相沉积设备报价，镀膜样品为156×156mm基片（并向下兼容）。

设备概述：

1.系统采用单室方箱式结构，手动前开门；

2.真空室:尺寸为350mm×350×280mm；

3.极限真空度：≤6.67x10-4 Pa (经烘烤除气后，采用分子泵抽气)；

系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 系统从大气开始抽气到5.0x10-3 Pa，35分钟可达到

（采用分子泵抽气，分子泵不配，进口化学气相沉积设备，预留分子泵接口)； 停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa（采用分子

泵抽气，分子泵不配，预留分子泵接口)；

4.采用样品在下，喷淋头在上喷淋式进气方式；

5.样品加热加热温度：300℃，温控精度：±1°C，采用日本进口控温表进行控温；

6.喷淋头尺寸：200×200mm，喷淋头与样品之间电极间距20-80mm连续可调；

7. 沉积工作真空：13-1300Pa；

8.气路设有匀气系统，真空室内设有**抽气均匀性抽气装置；

9.射频电源：频率 13.56MHz，功率500W，全自动匹配；

10.SiH4、NH3、CO2、N2、H2、PH3、B2H6、七路气体，共计使用7个质量流量控制器控制进气。

11. 系统设有尾气处理系统(高温裂解方式)。

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化学气相沉积法在金属材料方面的使用

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售化学气相沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

化学气相沉积法生产金属铱高温涂层从20世纪80年代起，进口化学气相沉积设备哪家好，NASA 开始尝试使用金属**化合物化学气相沉积法制取出使用铼基铱作为涂层的复合喷管，并获得了成功，这时化学气相沉积法在生产金属涂层领域才有了一定程度上的突破。

NASA 使用了C15H21IrO6作为制取铱涂层的材料，并利用 C15H21IrO6的热分解反应进行沉积。铱的沉积速度很快，可以达到3~20μm/h。 沉积厚度也达到了50μm，C15H21IrO6的制取效率达 70%以上。

进口化学气相沉积设备哪家好-沈阳鹏程有限公司由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司位于沈阳市沈河区凌云街35号。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前沈阳鹏程在化工设备配件中享有良好的声誉。沈阳鹏程**全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。沈阳鹏程全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司是由集科、工、技、贸为一体的**企业。公司业务部主要分为太阳能发电领域事业部和科学仪器事业部两大部门。太阳能发电领域事业部以致力于光伏发电系统集成研究、光伏设备研发生产为主导。鹏程真空光伏部与国内外多所高校、电力设计研究院、业内企业及相关生产企业建立了战略合作伙伴关系，拥有全套的光伏系统集成设计能力与配套产品供应。科学仪器事业部主要从事研发生产，各类薄膜材料制备设备、纳米材料制备设备、真空冶金设备、太阳能光伏设备、集成电路装备、真空非标系统研发生产、各种实验室特殊需求仪器的制造。