磁控溅射沉积设备-沈阳鹏程公司-磁控溅射沉积设备公司

自动磁控溅射系统有哪些特点？

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。

自动磁控溅射系统产品特点：

不锈钢腔体

晶振夹具具有的lt;1 ?的厚度分辨率

带观察视窗的腔门易于上下的载片

基于LabView软件的PC计算机控制

带密码保护功能的多级访问控制

*的*联锁功能

预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片

自动磁控溅射系统概述

带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6"旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

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磁控溅射“磁控反应”介绍

磁控反应溅射绝缘体看似*，而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面以及靶源表面，从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而*阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，磁控溅射沉积设备公司，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，磁控溅射沉积设备，若无冷却或冷却不足，磁控溅射沉积设备多少钱，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

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