化学气相沉积设备报价-沈阳鹏程有限公司-化学气相沉积设备

化学气相沉积法在金属材料方面的使用

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享化学气相沉积的相关内容，希望对**业的朋友有所帮助！

化学气相沉积法生产几种金属薄膜

金属薄膜因其有着较好的高导电率、强催化活性以及较其稳定引起了研究者的兴趣。和生成金属薄膜的其他方式相比，化学气相沉积法有更多技术优势，所以大多数制备金属薄膜都会采用这种方式。沉积金属薄膜用的沉积员物质种类比较广泛，不过大多是金属元素的卤化物和**化合物，比如COCl2、氯化碳酰铂、氯化碳酰铱、DCPD化合物等等。

Goto 团队在金属薄膜用作电极材料上做了大量的工作。他们所使用的衬底材料有蓝宝石、石英玻璃以及氧化钇稳定化的二氧化锆（YSZ）等等。在成沉积时往装置中通入氧气是为了*掉原料因热分解产生的碳，并制备出较有金属光泽的金属薄膜，如若不然则得到的就是铱碳簇膜，也就是纳米等级被晶碳层所包裹的铱颗粒。沉积在YSZ 上面的铱碳簇膜有着较好的电性能和催化活性。在比较低的温度下，铱碳簇膜的界面电导率能达到纯铱或者纯铂的百倍以上。金属和炭组成的簇膜是一种输送多孔催化活性强的簇膜，在电极材料上的使用在未来将很有潜力。

ICP刻蚀机的应用

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——生产、销售ICP刻蚀机，我们公司坚持用户为上帝，想用户之所想，急用户之所急，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以质量求生存，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创辉煌。

等离子体处理可应用于所有的基材，化学气相沉积设备，甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗，等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括：

等离子体*浮渣

光阻材料剥离

表面处理

各向异性和各向同性失效分析应用等离子刻蚀反应材料改性

包装清洗

钝化层蚀刻

聚亚酰胺蚀刻

增强粘接力

生物医学应用

聚合反应

混合物清洗

预结合清洗

ICP刻蚀机装片介绍

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等离子体系统效应的过程转换成材料的蚀刻工艺。在待刻蚀硅片的两边，分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板，叠放整齐，用夹具夹紧，确保待刻蚀的硅片中间没有大的缝隙。冷热探针法将夹具平稳放入反应室的支架上，化学气相沉积设备报价，关好反应室的盖子。等离子刻蚀检验原理为冷热探针法，具体方法如下：热探针和N型半导体接触时，化学气相沉积设备多少钱，传导电子将流向温度较低的区域，使得热探针处电子缺少，因而其电势相对于同一材料上的室温触点而言将是正的。同样道理，P型半导体热探针触点相对于室温触点而言将是负的。此电势差可以用简单的微伏表测量。热探针的结构可以是将小的热线圈绕在一个探针的周围，也可以用小型的电烙铁。

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