磁控溅射镀膜设备报价-磁控溅射镀膜设备-沈阳鹏程真空技术

双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些？

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产品特点

1：此款镀膜仪配置有两个靶：一个靶配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶配套的是直流电源，磁控溅射镀膜设备，用于导电材料的溅射镀膜

2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，磁控溅射镀膜设备价格，应用非常广泛。

3：该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。

自动磁控溅射系统有哪些特点？

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。

自动磁控溅射系统产品特点：

不锈钢腔体

晶振夹具具有的lt;1 ?的厚度分辨率

带观察视窗的腔门易于上下的载片

基于LabView软件的PC计算机控制

带密码保护功能的多级访问控制

*的*联锁功能

预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片

卧式磁控溅射镀膜机

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主要用途：　　

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。　　

系统组成:　　

主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。

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