脉冲激光沉积细节介绍
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力(gt;100 Torr)下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体,*油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离,对沉积条件进行较大的控制。
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脉冲激光沉积的优点
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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;
2. 沉积速率高,试验*,衬底温度要求低,激光脉冲沉积装置哪家好,制备的薄膜均匀;
3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制;
4. 发展潜力**,具有较大的兼容性;
5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。
脉冲激光沉积发展前景
由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知,激光脉冲沉积装置报价,它是一种较具发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化,将在半导体薄膜、**晶格、**导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用;并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平,加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。
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