芜湖铌靶材 昆山世高新材料科技

纯度：≥99.95% 铌靶，状态：退火态(M) 或 硬态(Y)。

方靶材规格：厚度(1-20)x宽度(10-800)x长度(200-1000)mm。

生产工艺：原材料-电子束真空熔炼-锻造-磨光-铌块成品。

铌溅射靶材在光导纤维，半导体晶片和集成电路中得到了广泛的应用。

世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料，属国家**，于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产，为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力，成功获得行业客户和**的认可，积累了一批优质稳定的行业客户，包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。