西安磁控溅射五氧化二钽靶材厂家

Ta2O5（氧化钽）薄膜的光谱透过波段为0.3～10um，是可见光到近红外波段重要的高折射率材料之一。

制备五氧化二钽薄膜并研究其性能,有很强的实用**,已引起人们的密切关注。

制备Ta2O5薄膜的方法有很多,常见的有化学气相沉积法[2-3]、DC或RF溅射法[4-6]、电子束蒸发法[7-8]、溶胶凝胶法[9-12]等.与传统的物理化学方法相比较,溶胶凝胶法不需要真空条件和太高的温度,可在任意形状的基片上成膜,制备过程容易控制,体系的化学均匀性好,而且通过自组装和模板作用可用于合成具有高比表面积的介孔材料

在可见和近红外区有高的透过率和反射率 ,已应用于增透膜、激光器、光通讯、太阳能电池等元器件上。五氧化二钽膜层又具有高介电常数 ,也是制造薄膜电容器的重要材料

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