研究表明,影响氮化钽薄膜结合力的主要因素为溅射压力和加热温度,氮分压比、溅射电流为次要因素;氮分压对氮化钽薄膜的硬度影响较大
用作超硬质材料添加剂,可制备纯的五氯化钽:用于喷涂,增加变压器、集成线路、二极管的电稳定性
利用磁控反应溅射技术制备了氮化钽薄膜,利用TEM、XRD技术研究了薄膜的微观结构。研究结果表明:薄膜中多相共存;薄膜晶粒细小(16nm左右);同时还发现,在一定工作压力下,随着氮分压的提高,氮化物晶粒形成的取向改变,即平行于基体表面生长的晶面会有改变。
利用磁控反应溅射技术制备氮化钽薄膜,对磁控反应溅射制备氮化钽薄膜的工艺参数(包括氮分压比、加热温度、溅射压力、溅射电流)用正交设计进行优化
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