衢州半导体单晶硅片研磨抛光微粉

公司2003年被国家技术部评为国家重点高新技术企业，并获得了”黉雪“商标注册。2005年通过ISO9001:2000国际质量体系认证。公司拥有一批多年从事化工领域的研究人员，带领我司走在行业前沿，并及时为客户提供技术支持与服务。
平板氧化铝可以用于磨料抛光液， 对于材料加工行业来说，无论是材料的抛光，还是电子产品的精细打磨，都离不开磨料。氧化铝又称为刚玉，摩氏硬度9，具有很大的硬度，十分适合当研磨材料。而平板状氧化铝相对于常规的纳米氧化铝，其平整光滑的片形表面对于被磨对象(如半导体硅晶片，智能手机外壳等等)来说不易划伤，产品的合格品率可因此提高10％至15％。所以，平板状氧化铝已经成为了高精密微电子行业，宝石加工业和金属陶瓷行业的新宠。

MCA平板状氧化铝抛光研磨微粉性能指标 
粒度分布表 单位微米（μm）
产品名称 dv-0值 dv-3值    dv-50值 dv-94值
MCA40 <.6 39-44.6    27.7-31.7 18-20
MCA35 <.2 35.4-39.8     23.8-27.2 15-17
MCA30 <50.4 28.1-32.3     19.2-22.3 13.4-15.6
MCA25 <40.1 24.4-28.2     16.1-18.7 9.6-11.2
MCA20 <32.0 20.9-24.1     13.1-15.3 8.2-9.8
MCA15 <25.2 14.8-17.2     9.4-11         5.8-6.8
MCA12 <20.3 11.8-13.8     7.6-8.8         4.5-5.3
MCA09 <16.3 8.9-10.5     5.9-6.9     3.3-3.9
MCA05 <12.5 6.6-7.8     4.3-5.1         2.55-3.05
MCA03 <10.0 4.8-5.6     2.8-3.4         1.5-2.1

化学指标
AL2O3 SiO2 Fe2O3 Na2O
>99.0 <0.2         <0.1           <1

平板氧化铝可以用于无机填充剂， 作为填充剂是平板状氧化铝早的应用，它被成功地用作聚合物的填料，以增强其热导率。   氧化铝的热导率比有机聚合物高很多，在聚合物中添加一定量的平板状氧化铝，就可以形成氧化铝网络。该网络能够把大部分热量传出，因此用这种聚合物一陶瓷复合材料制备的电子元件的寿命可以提高，平板状氧化铝的直径越大，所形成网络的节点越少，导热效果就越好。
研磨剂由磨料和磨液配制而成。研磨料的硬度、形状、颗粒尺寸和均匀度以及磨液的易使用性对研磨粒的分散和悬浮性以及可清洗性，都将影响晶片表面的加工质量。对于硬度较高的晶片可采用金刚石研磨料，一般采用三氧化二铝刚玉粉或碳化硅粉作为研磨料。磨料的粒度视被加工晶片物性和可能造成的表面损伤层深度来选用。在半导体晶片加工中，通常选用8～10μm，10～12μm或12～14μm的氧化铝刚玉粉作为磨料，以保证较快的磨削速度，同时不过深的损伤层。

淄博淄川大众磨料厂(淄博众力达新材料有限责任公司）位于全国氧化铝,陶瓷生产基地---淄博，成立于1999年，二十多年来一直致力于氧化铝材料的研制与开发。 公司2003年被国家技术部评为国家重点**企业，并获得了”黉雪“商标注册。2005年通过ISO9001:2000**质量体系认证。公司拥有一批多年从事化工领域的研究人员，带领我司走在行业*，并及时为客户提供技术支持与服务。我司主要生产：半导体研磨用MCA平板状氧化铝微粉，低纳系列a-氧化铝，陶瓷用a-氧化铝，耐火材料用a-氧化铝、蓝宝石，不锈钢抛光用a-氧化铝、低温氧化铝细粉等系列产品。其中我司拥有自主知识产权的MCA（平板状氧化铝研磨微粉）系列产品的**技术，该产品填补了国内在磨料上的空白，改变了我国长期依赖进口的局面，产品稳定供应国内企业并出口美国欧洲日本、韩国，马来西亚，闽台等地。公司MCA(平板状氧化铝研磨抛光微粉Platelet Calcined Alumina)系列产品以工业氧化铝为主要原料，纯度达到99%以上，具有优异的耐热性，耐酸碱腐蚀性，采用*特的生产工艺，使其颗粒尺寸较均匀，硬度高达莫氏九级，仅次于金刚石，是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。MCA（平板状氧化铝研磨微粉)的晶体形状为六角平板状，不同于传统磨料的等体积或者球形，此形状使磨料颗粒在研磨过程中平行于被加工工件（如半导体硅片等）表面，产生滑动的研磨效果，而非传统的磨料滚动研磨，因而不容易对工件表面产生划伤，同时因为研磨压力是均匀分布在平板颗粒表面，颗粒破碎减少，耐磨性大幅度提高，因而能提供的磨削效率和表面光洁度。质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit 的WCA相当。MCA产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多..