徐州半导体研磨抛光微粉

其中我司拥有自主知识产权的MCA（平板状氧化铝研磨微粉）系列产品的专利技术，该产品填补了国内在磨料上的空白，改变了我国长期依赖进口的局面，产品稳定供应国内企业并出口美国欧洲日本、韩国，马来西亚，台湾等地。
MCA平板状氧化铝抛光研磨微粉性能指标 
粒度分布表 单位微米（μm）
产品名称 dv-0值 dv-3值    dv-50值 dv-94值
MCA40 <.6 39-44.6    27.7-31.7 18-20
MCA35 <.2 35.4-39.8     23.8-27.2 15-17
MCA30 <50.4 28.1-32.3     19.2-22.3 13.4-15.6
MCA25 <40.1 24.4-28.2     16.1-18.7 9.6-11.2
MCA20 <32.0 20.9-24.1     13.1-15.3 8.2-9.8
MCA15 <25.2 14.8-17.2     9.4-11         5.8-6.8
MCA12 <20.3 11.8-13.8     7.6-8.8         4.5-5.3
MCA09 <16.3 8.9-10.5     5.9-6.9     3.3-3.9
MCA05 <12.5 6.6-7.8     4.3-5.1         2.55-3.05
MCA03 <10.0 4.8-5.6     2.8-3.4         1.5-2.1

平板氧化铝可以用作增韧剂 将片状氧化铝作为第二相增韧剂加入到陶瓷中，可以起到增加裂纹偏转和桥联作用，对提高陶瓷的断裂韧性有明显的效果。采用引入平板状氧化铝晶种的方法，在热压烧结的条件下可制备出断裂强度为600MPa，断裂韧性为7.9MPa·m1/2的具有异向生长晶粒的Al203陶瓷。除了在氧化铝陶瓷中引入片状晶，在其他陶瓷的制备中加入平板状氧化铝也能很好地提高材料的性能。比如在X-sialon中加入28vol％的平板状氧化铝后，韧性可以从1. MPa·m1/2增加到4.16 MPa·m1/2，并且弹性模量也随着片晶的增加而增加；在Ti02中加入30vol％的片状氧化铝后，断裂韧性从2.4 MPa·m1/2增加到3.3 MPa·m1/2，断裂强度也从215MPa增加到265MPa。

物理指标
化学名称  颜色  比重   莫氏硬度
α-AL2O3  白色  >3.9 9.0

平板氧化铝可以用于珠光颜料 目前使用多的珠光颜料常用云母薄片造出。但云母薄片常含有有色杂质离子，分离较为困难，且其过厚的边缘会使珠光颜料易发生散射现象，对其视觉效果造成不良的影响。 人工合成的平板状氧化铝粉体，具有云母无法获得的设计自由度和物理化学性能。在合成过程中，可以消除或控制杂质的引入，同时使产品具有狭窄的粒度和厚度分布，大的径厚比，几乎完全无色和光滑平整的表面，而且这种氧化铝在水中具有良好的分散性。因此，它是珠光颜料理想的底材。
晶片研磨的基本技术是磨削加工。通过研磨机磨板的旋转和分散在磨板上的磨剂对作行星式运动的晶片进行连续的磨削加工，以达到去除切片过程中产生的刀痕、切片损伤层和控制厚度的目的。精密的磨片机加工出的晶片，在同一盘上的晶片厚度公差小于1μm，不同盘次公差小于5μm;不平行度小于2μm。

淄博淄川大众磨料厂(淄博众力达新材料有限责任公司）位于全国氧化铝,陶瓷生产基地---淄博，成立于1999年，二十多年来一直致力于氧化铝材料的研制与开发。 公司2003年被国家技术部评为国家重点**企业，并获得了”黉雪“商标注册。2005年通过ISO9001:2000**质量体系认证。公司拥有一批多年从事化工领域的研究人员，带领我司走在行业*，并及时为客户提供技术支持与服务。我司主要生产：半导体研磨用MCA平板状氧化铝微粉，低纳系列a-氧化铝，陶瓷用a-氧化铝，耐火材料用a-氧化铝、蓝宝石，不锈钢抛光用a-氧化铝、低温氧化铝细粉等系列产品。其中我司拥有自主知识产权的MCA（平板状氧化铝研磨微粉）系列产品的**技术，该产品填补了国内在磨料上的空白，改变了我国长期依赖进口的局面，产品稳定供应国内企业并出口美国欧洲日本、韩国，马来西亚，闽台等地。公司MCA(平板状氧化铝研磨抛光微粉Platelet Calcined Alumina)系列产品以工业氧化铝为主要原料，纯度达到99%以上，具有优异的耐热性，耐酸碱腐蚀性，采用*特的生产工艺，使其颗粒尺寸较均匀，硬度高达莫氏九级，仅次于金刚石，是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。MCA（平板状氧化铝研磨微粉)的晶体形状为六角平板状，不同于传统磨料的等体积或者球形，此形状使磨料颗粒在研磨过程中平行于被加工工件（如半导体硅片等）表面，产生滑动的研磨效果，而非传统的磨料滚动研磨，因而不容易对工件表面产生划伤，同时因为研磨压力是均匀分布在平板颗粒表面，颗粒破碎减少，耐磨性大幅度提高，因而能提供的磨削效率和表面光洁度。质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit 的WCA相当。MCA产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多..