适用设备: 应用于各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。
用激光拉曼谱和原子力显微镜等现代分析手段研究了磁控溅射石墨靶制备的薄膜的结构和特性。
通过千分尺,精密卡尺,测量产品 尺寸,以确保符合图纸要求;通过表面清洁度仪测量产品表面光洁度及清洁程度。
简单的说,靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料。
世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。