作为制备和生产功能薄膜的方法之一,溅射法广泛应用于许多领域。它是目前制备金属薄膜常用的工艺。作
为高技术用的靶材是一种全新的概念。随着高技术用新材料突飞猛进的发展,世界靶材的市场销售规模日益扩大
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速
率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分
布较均匀。
公司主要经营产品:
一、真空镀膜材料
1.高纯真空溅射靶材(99.9%——99.999%)
高**属靶材:锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨
靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶
Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、
不锈钢靶材S.S等……
多元合金靶材: 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝
靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si
、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……
此产品广泛应用于真空镀膜行业,多弧离子镀膜设备,应用于各种膜层的镀制,银色,金色,玫
瑰金,黑钛,玫瑰红,七彩色等
醴陵市利吉升新材料有限公司是专业生产销售高**属材料,合金材料 , 陶瓷材料等蒸发镀膜材料以及溅射靶材.公司产品广泛应用于半导体、光电、OLED、装饰镀膜、太阳能光伏、磁记录等镀膜领域,公司拥有专业的技术研发人员,拥有经验丰富的镀膜材料生产加工技术人员,长期服务于国家科研项目及**镀膜产业。和多所高校研究所建立长期的合作关系,以较高的性价比,成功发替代了国外进口产品,颇受用户**。