石家庄高纯五氧化二钽靶材电话

制备Ta2O5薄膜的方法有很多,常见的有化学气相沉积法[2-3]、DC或RF溅射法[4-6]、电子束蒸发法[7-8]、溶胶凝胶法[9-12]等.与传统的物理化学方法相比较,溶胶凝胶法不需要真空条件和太高的温度,可在任意形状的基片上成膜,制备过程容易控制,体系的化学均匀性好,而且通过自组装和模板作用可用于合成具有高比表面积的介孔材料

离子束溅射Ta2O5薄膜的研究主要集中在离子束、烘烤温度和工作气体流量比等参数的优化以及热处理对薄膜性能的影响上，并获得了离子束溅射制备Ta2O5薄膜的折射率、消光系数、应力、化学计量比、微结构和光学带隙等特性。

在可见和近红外区有高的透过率和反射率 ,已应用于增透膜、激光器、光通讯、太阳能电池等元器件上。五氧化二钽膜层又具有高介电常数 ,也是制造薄膜电容器的重要材料

五氧化二钽是一种很好的高折射率镀膜材料 ,折射率 2 .1 ,它与二氧化硅组合镀制的增透膜、反射膜、干涉滤光片等膜层牢固、化学稳定性好、抗激光损伤能力强。

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