用途:用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD. 光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。
方靶材规格:厚度(1-20)x宽度(10-800)x长度(200-1000)mm。
纯度:≥99.95% 铌靶,状态:退火态(M) 或 硬态(Y)。
大约百分之九十的铌用于生产##结构钢,大量采用铌板,然后用于高温合金,用于喷气发动机部件,燃气轮机,火箭组件,涡轮增压系统等应用。和耐热和燃烧设备。
世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。