溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。
品名:铌靶 铌板靶,纯度:≥99.95%,密度:≥8.6g/cm3,熔点:2468℃,尺寸范围:根据客户需求定制。
纯度:≥99.95% 铌靶,状态:退火态(M) 或 硬态(Y)。
铌靶材是重要的薄膜技术用材料,铌靶材终制作纯度可**99.95%。
世高 主营靶材— **薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于**材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。