纯度4N-6N铝靶材，铜靶材，钛靶材铝靶铜靶钛靶厂家

北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯铝靶材及铝的相关镀膜产品，主要包括：
 1、 高纯铝靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯铝靶材。
 2、 高纯铝靶材纯度为：99.9%，**，99.999%，99.9999%。
 3、 高纯铝靶材的规格：（1）平面靶材如?100*5mm平面高纯圆铝靶，150*100*3平面高纯板铝靶材，（2）磁控溅射用高纯铝靶：?100*120柱靶等。
 4、 高纯铝靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。
 5、 高纯铝靶材加工工艺：车，铣，等。
 6、高纯铝靶材相关参数的介绍：外观：银白色 密度：2.70 g/cm3 熔点： 660℃沸点：2463
 北京冠金利新材料科技有限公司长期供应高纯钛及高纯钛靶，高纯钛靶材，纯度为99.9%-99.999%，本公司**生产金属镀膜材料，钛靶是我们的主营靶材之一，主要用于溅射镀膜，各大科研院所及高校实验。高纯钛靶的相关介绍如下：
 1、 高纯钛靶材的纯度为99.5%，99.9%，**，99.999%。
 2、 平面高纯钛靶材常用规格：?100*40，?76.2*6，100*400*10等。
 3、 柱状高纯钛靶：100*80，125*63等等。
 4、 高纯钛靶的规格尺寸可根据客户要求定做，也可按图纸加工。
 5、 高纯钛靶的生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等技术。
 6、 蒸镀用高纯钛丝：?0.2-3。
 7、 蒸发用高纯钛颗粒:6*6,2*10,3*3等。
 北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯铜，高纯铜靶，高纯铜靶材，铜靶材及其相关产品，产品如下：
 1、高纯铜靶：平面靶常用规格如圆铜靶?76.2*5板靶：400*100*10 ，2、高纯铜靶磁控旋转柱靶，如?65*80等。
 3、高纯铜靶纯度为99.95%-99.9999%。
 4、高纯铜靶产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。
 5、各种规格尺寸可根据客户要求定做，也可按图纸加工。