• 铝靶材价格,钛靶材价格,铜靶材价格,铬靶材价格,厂家,..

    铝靶材价格,钛靶材价格,铜靶材价格,铬靶材价格,厂家,..

  • 2015-04-30 00:37 55
  • 产品价格:面议
  • 发货地址:北京市昌平区包装说明:不限
  • 产品数量:不限产品规格:不限
  • 信息编号:40314434公司编号:3921867
  • 吴英民 销售人员
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    产品描述
    北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯铬靶,高纯铬靶材以及高纯铬相关产品,高纯铬靶材产品详情如下:
     1、 高纯铬靶的纯度为:99.5%,99.8%,99.95%,**
     2、 高纯铬靶的常用规格:高纯铬管靶,高纯铬环靶,长度20-400mm,直径:50-120mm,管厚:5-10mm.
     3、 高纯铬靶的生产工艺:热等静压,粉末冶金。
     4、 高纯铬颗粒:常用粒度有:1-3mm,3-5mm,40目,-20-300目,40#,60#,80#,200#等用于蒸发镀膜,纯度高,蒸镀效果好。
     5、 高纯铬条:?0.3,?0.5,?1.0等。
     6、 高纯铬的相关参数:Formula: Cr 
     7、 外观:银灰色
     8、 规格:粒、粉、靶材,条。
     9、 密度:7.2
     10、 熔点:1890℃
     蒸发温度:Evaporation Temperture: 1430 ℃ 
     北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯铝靶材及铝的相关镀膜产品,主要包括:
     1、 高纯铝靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯铝靶材。
     2、 高纯铝靶材纯度为:99.9%,**,99.999%,99.9999%。
     3、 高纯铝靶材的规格:(1)平面靶材如?100*5mm平面高纯圆铝靶,150*100*3平面高纯板铝靶材,(2)磁控溅射用高纯铝靶:?100*120柱靶等。
     4、 高纯铝靶的原材料生产工艺:真空熔炼,熔融铸造,粉末冶金,热压,冷(热)等静压等。
     5、 高纯铝靶材加工工艺:车,铣,等。
     6、高纯铝靶材相关参数的介绍:外观:银白色 密度:2.70 g/cm3 熔点: 660℃沸点:2463℃ 。以上是北京冠金利新材料科技有限公司对高纯铝靶的相关介绍,高纯铝靶材规格尺寸可根据客户要求定做,也可按图纸加工,如有疑问,请来电咨询!
     
     1、高纯铜靶:平面靶常用规格如圆铜靶?76.2*5板靶:400*100*10 ,2、高纯铜靶磁控旋转柱靶,如?65*80等。
     3、高纯铜靶纯度为99.95%-99.9999%。
     4、高纯铜靶产品通过各种方法(磁控溅射、真空镀等)应用真空镀膜的各种领域:科学研究,航天航空,汽车,微电子,集成电路产业,光源,光学,装饰,平面显示器产业,信息存储产业,数据存储等等。
     5、各种规格尺寸可根据客户要求定做,也可按图纸加工
     
     北京冠金利新材料科技有限公司长期供应高纯钛及高纯钛靶,高纯钛靶材,纯度为99.9%-99.999%,本公司**生产金属镀膜材料,钛靶是我们的主营靶材之一,主要用于溅射镀膜,各大科研院所及高校实验。高纯钛靶的相关介绍如下:
     1、 高纯钛靶材的纯度为99.5%,99.9%,**,99.999%。
     2、 平面高纯钛靶材常用规格:?100*4,?76.2*6,100*400*10等。
     3、 柱状高纯钛靶:100*80,125*63等等。
     4、 高纯钛靶的规格尺寸可根据客户要求定做,也可按图纸加工。
     5、 高纯钛靶的生产工艺:真空熔炼,熔融铸造,粉末冶金,热压,冷(热)等静压等技术。
     6、 蒸镀用高纯钛丝:?0.2-3。
     7、 蒸发用高纯钛颗粒:6*6,2*10,3*3等。
     
     
     北京冠金利其它靶材:各种高**属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材:铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La 金靶Au 等。
     合金靶材:钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al 、 铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
     陶瓷靶材 
       ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法(磁控溅射、真空镀等)应用真空镀膜的各种领域:科学研究,航天航空,汽车,微电子,集成电路产业,光源,光学,装饰,平面显示器产业,信息存储产业,数据存储等等。
     注所有产品规格可根据客户要求定做。
    


    欢迎来到北京冠金利新材料科技有限公司网站,我公司位于拥有6项世界级遗产,拥有文化遗产项目数最多的城市,一座有着三千余年建城历史、八百六十余年建都史的历史文化名城,拥有众多历史名胜古迹和人文景观的中国“八大古都”之一 —北京。 具体地址是北京昌平公司街道地址,联系人是。
    主要经营农化相关产品。
    我们主要供应表面处理 气相沉积设备 阴极溅射设备 等,且郑重承诺:保证以最好的产品、最优的质量、最低的价格、最完善的服务来答谢新老顾客的信赖。如果您对我公司的产品有兴趣,请在线留言或者来电咨询。

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