供应激光刻膜机三工较**

激光刻膜机产品特点:
半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器
膜面朝上非接触式工作台
直线电机驱动
四路同步输出
自动识别跟踪定位
自动进出料
在线监测
静态显示
 
激光刻膜机技术参数:
型号规格	SEF-G5
有效加工幅面	1.1m×1.4m（或635mm×1245mm	）
较大运行速度		2000mm/s	
重复定位精度		±10μm	
刻线直线度		±10μm / 1000 mm	
典型刻膜线宽		30～60μm	
三线外沿总宽度 	300～500μm	
  
选项和配件：
高标配，可根据需要移除不需要的部件。
 
应用和市场：
激光刻膜机应用非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。