光清洗技术是利用**化合物的光敏氧化作用,达到去除黏附在材料表面上的**物质,经过光清洗后的材料表面可以达到原子清洁度。 适用范围:1、LCD, PDP, OLED, 半导体硅芯片,集成电路、**印制电路板清洗和表面改质。2、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料。3、**玻璃,PP, PE菲林。详情请点击瑞森特公司网站: ★工作原理是利用紫外光子对**物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的**化合物(碳氢化合物)的目的。 ★在实际应用中,通常是利用一种能产生两种波长的紫外灯,这种UV灯能够产生波长为254nm、185nm的紫外光(通常185nm 波长的仅为254nm波长光的20%)。 ★根据臭氧(03)产生程度分S型,H型,L型。根据形态分为D型-直管,U型,N型,M型等。 详情请点击瑞森特公司网站:
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