优尔鸿信检测实验室配备有场**扫描电镜、钨丝灯扫描电镜、FIB聚合离子束、工业CT等用于电子和半导体行业检测设备,可开展电子元器件和半导体芯片质量检测与失效分析服务。
场**扫描电镜是一种高分辨率、稳定性好、功能多样的电子显微镜,在材料科学、生物医学、地质学等多个领域都有广泛的应用。
扫描电镜测试用途
扫描电镜形貌分析SEM
扫描电镜SEM是一种利用高能电子束扫描样品表面,并通过检测电子与样品相互作用产生的信号来获得样品表面微观结构的成像工具。其主要特点在于分辨率,通常在亚微米至纳米级范围内,可以清晰呈现细小结构,如细胞、纳米颗粒、金属晶粒等。
SEM的成像是通过电子束与样品表面的相互作用实现的。电子束与样品表面原子碰撞后,会产生二次电子、背散射电子等信号。这些信号被探测器捕捉并转化为电信号,再经过放大和处理,终在显示屏上形成样品的微观图像。
SEM的应用广泛,包括材料科学、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探等多个领域。它可以用于观察样品的表面形貌、断口分析、微区成分分析等。
扫描电镜能谱分析SEM+EDS
扫描电镜能谱分析是一种利用能谱仪测量样品中不同元素特征能量,以确定样品中元素种类和相对含量的分析方法。它通常与SEM结合使用,形成SEM-EDS系统。
在SEM-EDS测试中,电子束与样品表面相互作用产生的特征X射线被能谱仪捕捉。这些特征X射线具有特定的能量,对应于样品中的不同元素。通过测量这些特征X射线的能量和强度,可以确定样品中存在的元素种类和相对含量。
能谱分析主要包括定性分析、定量分析和空间分布分析。定性分析是通过识别能谱图中的峰值来确定样品中存在的元素;定量分析是根据能谱图中各个峰的强度来计算元素的质量或原子百分比;空间分布分析则可以揭示样品中元素的分布特征和微观结构。
总结:透射电镜和扫描电镜在结构和原理上有很大的区别,前者具有高分辨率和对样品内部结构的分析能力,后者则适用于表面形态和结构的观察。在实际应用中,根据研究目的和样品特性选择合适的电镜类型是重要的。
场**扫描电镜(FE-SEM)是一种高分辨率的电子显微镜,广泛应用于材料科学、生物学、纳米技术等领域。
工作原理
电子源:FE-SEM使用场**电子源,通过强电场从尖锐的钨针尖或单晶LaB6**电子,产生高亮度、高相干性的电子束。
电子束聚焦:电子束经过电磁透镜系统聚焦,形成细的探针,扫描样品表面。
信号检测:电子束与样品相互作用,产生二次电子、背散射电子等信号,探测器接收这些信号并形成图像。
主要特点
高分辨率:FE-SEM的分辨率通常可达1 nm以下,能够观察纳米级结构。
高放大倍数:放大倍数可达百万倍,适合观察微小细节。
多种信号模式:除了二次电子成像,还可以进行背散射电子成像、能谱分析(EDS)等。
样品准备
导电性:非导电样品需要镀金或碳等导电层,以避免电荷积累。
尺寸:样品尺寸需适合样品台,通常不**过几厘米。
干燥:生物样品通常需要脱水处理,或使用低温冷冻技术。
应用领域
材料科学:观察材料的微观结构、表面形貌、晶体缺陷等。
生物学:研究细胞、组织、微生物等的**微结构。
纳米技术:表征纳米颗粒、纳米线、薄膜等纳米材料的形貌和尺寸分布。
测试步骤
样品准备:根据样品性质进行适当的预处理。
装载样品:将样品固定在样品台上,确保稳固。
抽真空:将样品室抽真空,通常**10^-5 Pa。
调整参数:设置加速电压、束流、工作距离等参数。
扫描成像:选择合适的区域进行扫描,获取图像。
数据分析:对图像进行分析,提取所需信息。
注意事项
样品污染:避免样品污染,保持样品室清洁。
参数优化:根据样品特性优化测试参数,以获得图像质量。
安全操作:遵循设备操作规程,确保安全。
通过FE-SEM测试,可以获得样品表面的高分辨率图像和丰富的微观结构信息,为科学研究和技术开发提供重要支持。
透射电镜是一种高分辨率的电子显微镜,主要用于分析固体样品的晶体结构、原子尺寸、化学键等方面的信息。透射电镜的工作原理是利用从样品中反射回来的电子成像,通过调节电子束的方向、电压和电流来控制成像效果。透射电镜的优点是可以观察到纳米级别的结构,分辨率高,但缺点是不能对样品进行非接触式的形貌观察。
扫描电镜的测试项目涵盖了从形貌观察到成分分析、从微观结构到三维重建的多种功能,广泛应用于材料科学、生物学、地质学、纳米技术等领域。根据具体需求,可以选择合适的测试项目进行分析。
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