快恢复二极管的内部结构与普通PN结二极管不同,它属于PIN结型二极管,即在P型硅材料与N型硅材料中间增加了基区I,构成PIN硅片。因基区很薄,反向恢复电荷很小,所以快恢复二极管的反向恢复时间较短,正向压降较低,反向击穿电压(耐压值)较高。
快恢复二极管是一种反向恢复时间很短的二极管,通常在5微秒以下。它的工艺上采用掺金技术,结构上采用PN结型结构或改进的PIN结构。
快恢复二极管的正向压降高于普通二极管,通常在1-2V之间,反向耐压多在1200V以下。从性能上可分为快恢复和超快恢复两个等级,前者反向恢复时间为数百纳秒或更长,后者则在100纳秒以下。
快恢复二极管是一种反向恢复时间很短(通常在5微秒以下)的二极管。快恢复二极管的正向压降高于普通二极管(通常在1-2V),反向耐压多在1200V以下。快恢复二极管主要用于电路和开关电源中,可以提高电路的效率和可靠性。在工艺上,快恢复二极管采用掺金措施,结构上有采用PN结型结构,有的采用改进的PIN结构。从性能上可分为快恢复和超快恢复两个等级。
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