成都精密除异物设备 上海拢正半导体科技供应

各种晶圆的制程工艺较其精密复杂，各大厂有不同的工艺管控能力。作为前后道主制程工艺的辅助清洁设备单元，旋风清洁/除尘/除异物系统，以非接触式、高效清洁、方便加装等优势，得到了晶圆厂及设备商的采用。晶圆级封装是芯片封装中常见的方式之一，它的封装要求非常高，对表面微观污染物处理非常重要；目前主流的方式有湿式清洗和干式清洗，湿式清洗主要使用化学溶剂，干式清洗是除异物设备处理；随着工艺的发展和进步，除异物设备处理的应用开始普遍了。晶圆除异物设备优点：*溶解剂和水：降低了污染，符合环保生产的要求；全程干燥的处理方式：减少了湿式处理带来的各种问题；工艺简单，成都精密除异物设备、操作方便：设备操作简单，降低人工；生产可控性强：产品一致性好，提高了良品率；除异物设备现在应用非常普遍，成都精密除异物设备，各大厂家都开始使用这一工艺，相信在未来的发展，除异物设备可以在半导体行业发挥较大的作用，成都精密除异物设备。光学膜除异物设备采用紧凑型驱动不锈钢支撑胶辊，解决了加工薄材料的一大难题。成都精密除异物设备

旋风式非接触除尘设备有如下优势：对比水洗机的工艺简单、便于现场控制管理-效果在同类干式非接触式除尘设备属于较好。晶圆除异物设备用于在晶圆凸点工艺前去除污染，还可以去除**污染、去除氟和其它卤素污染、去除金属和金属氧化，也可以改善旋涂膜粘接和清洁金属焊盘。预处理晶圆的残留光刻胶和BCB，重新分配图形介电层，线条/光刻胶刻蚀，应用于晶圆材料的附着力增强，去除多余的塑封材料/环氧树脂，增强金焊料凸点的附着力，晶圆减压减少破碎，提高旋涂膜附着力，清洁铝焊盘。通过其处理能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除**污染物、油污或油脂。云南精密模具除异物设备除异物设备降低因不同材料热膨胀系数在界面间形成的内部剪切力。

卷对卷（薄膜、卷板)对应型-旋风**高精密除尘模组设备是指对以Roll To Roll工艺生产的卷板、薄膜、膜片等产品进行非接触式精密清洁。薄膜除异物设备运用静电设备中和薄膜按键板面静电、粘尘滚筒(粘尘胶辊)将薄膜按键上的异物清洁，并将异物转移至粘尘纸卷的一种薄膜按键表面除尘机除静电除尘设备，它还适用于其他3C行业平面材料表面清洁粘尘。由于近几年3C产品越做越薄，所以有些平面耗材也相对以前的薄，那么薄膜除异物设备也是当前选择比较多的除异物设备之一，薄膜除异物设备作为薄膜材料的主要除异物设备，技术方面已然成熟，薄膜除异物设备体积小，美观，操作方便，维护便捷，针对薄膜材料不卡料、卷料、无压伤等特点，是薄膜材料除异物选择。

各种晶圆的制程工艺较其精密复杂，各大厂有不同的工艺管控能力。作为前后道主制程工艺的辅助清洁设备单元，旋风清洁/除尘/除异物系统，以非接触式、高效清洁、方便加装等优势，得到了晶圆厂及设备商的采用。半导体晶圆对微污染物的存在非常敏感，为了达成晶圆表面无污染物的目标，必须移除表面的污染物并避免在制程前让污染物重新残余在晶圆表面。因此半导体晶圆在制造过程中，需要经过多次的表面清洗步骤，以去除表面附着的金属离子、原子、**物及微粒。目前晶圆清洗技术大致可分为湿式与干式两大类。所谓湿式化学清洗技术，是以液状酸碱溶剂与去离子水之混合物清洗晶圆表面，随后加以润湿再干燥的程序。干式则可以使用晶圆除异物设备进行处理。除异物设备使得封装过程中胶水能较好的把元件粘接牢固、密封稳定。

作为前后道主制程工艺的辅助清洁设备单元，旋风清洁/除尘/除异物系统，以非接触式、高效清洁、方便加装等优势，得到了晶圆厂及设备商的采用。在半导体生产工艺中，几乎每道工序中都需要进行清洁，晶圆清洁质量的好坏对器件性能有严重的影响。正是由于晶圆清洁是半导体制造工艺中重要、频繁的工序，而且其工艺质量将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性，所以国内外各大公司、研究机构等对清洁工艺的研究一直在不断地进行。除异物设备具有绿色环保等特点，随着微电子行业的迅速发展，除异物设备也在半导体行业的应用越来越多。随着半导体技术的不断发展，对工艺技术的要求越来越高，特别是对半导体晶圆的表面质量要求越来越严，其主要原因是晶圆表面的颗粒和金属杂质沾污会严重影响器件的质量和成品率。除异物设备提高产品的可靠性和使用寿命。杭州非接触式除异物设备

除异物设备去除元件上的**物、氧化物、微小颗粒等，活化提升元件表明的附着力和粘接力。成都精密除异物设备

旋风清洁/除尘/除异物系统目前在如下场景有应用：1)FAB设备中内置轻型旋风模组头，以辅助搬运机器人传递晶圆过程中的清洁。2)晶圆Grinding Disk Wheel的旋风清洁。3)晶圆切割后的异物去除。4)内存芯片激光器标记后残留异物的去除。5)芯片流转用托盘异物的去除。6)芯片贴片前后的去除异物。芯片制作需要在无尘室中进行，如果在制作进程中，有沾污现象，将影响芯片上器材的正常功用。据估计，80%的芯片电学失效都是由沾污带来的缺点引起的。沾污杂质是指半导体制作进程中引入的任何损害芯片成品率及电学功用的物质，沾污包含颗粒、**物、金属和**氧化层等。一般来说，工艺越精密关于控污的要求越高，并且难度越大，跟着半导体芯片工艺技能节点进入28纳米、14纳米等较**等级，工艺流程的延长且越趋杂乱，产线成品率也会随之下降。形成这种现象的一个原因便是**制程对杂质的敏感度较高，小尺度污染物的高效清洗较困难，解决的方法是使用除异物设备进行清洁。成都精密除异物设备

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从事显示及半导体行业中的新工艺设备与新材料领域
上海拢正光电科技有限公司是一家新成立的技术企业，从事显示及半导体行业中的新工艺设备与新材料领域，虽然企业成立时间不久，但企业团队人员在相关行业经验已有十、二十年，如同在产线中工作的各位同仁一样，我们秉承着 产业升级、服务制造的理念，希望共同在产业里耕耘收获。可以相信我们与客户的交流是没有障碍的，也是较能理客户的实际制造需求、较好地提供产品与服务来得以解决问题， 达成为客户的提升良率、工艺升级、创出**的目标。