华南城模具抛光电镀 清溪硅胶模具抛光电镀

电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴反应的影响，效果较好。 电化学抛光过程分为两步： （1）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra＞1μm。 （2）微光平整 阳化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。
要想获得高质量的抛光效果，重要的是要具备有高质量的油石、砂纸和研磨膏等抛光工具和品。而抛光程序的选择取决于前期加工后的表面状况，如机械加工、电火花加工，磨加工等等。机械抛光的一般过程如下： ①粗抛：经铣、电火花、磨等工艺后的表面可以选择转速在35 000—40 000 rpm的旋转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。常用的方法有利用直径Φ3mm、WA # 400的轮子去除白色电火花层。然后是手工油石研磨，条状油石加煤油作为润滑剂或冷却剂。一般的使用顺序为#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。 油石抛光方法，这个作业是重要的高难度作业，根据加工品的不同规格，分别约70度的角位均衡的进行交叉研磨。理想的往返范围约为40毫米～70毫米。油石作业也会根据加工品的材质而变化。许多模具制造商为了节约时间而选择从#400开始。

抛光是镀层表面或零件表面—道工序，其目的是要消除在磨光工序后还残留在表面上的细微磨痕。抛光面应该是平整、光亮、无痕、无浮雕、无坑、无金属扰乱层的似镜面状态的表面。经过磨光与抛光后的磨面变化。

在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，严格来说，模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由于电解抛光、流体抛光等方法很难控制零件的几何度，而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。

模具抛光一般先使用粗的油石对机械加工的模具型腔表面进行粗的打磨，打磨去机加的刀痕，然后再使用细的油石打磨去粗油石打磨的痕迹，然后再用细的砂纸对细油石打磨过的表面进行打磨，后再使用抛光膏或研磨膏对模具的型腔表面进行后的精抛光打磨，从而达到光亮如镜的效果。这就是一般对模具进行抛光的全过程。当然了，如果有可能的话，可以使用超声波抛光机来对模具进行抛光，这样效率较高。人也比较省劲。
抛光工序是为了获得光亮似镜的表面加工过程。多数采用抛光轮来反复磨光后的零件表面上微小的不平，通用于镀层表面的修饰。