• 东坑模具镜面抛光厂 抛光和电镀有什么区别

    东坑模具镜面抛光厂 抛光和电镀有什么区别

  • 2022-12-03 06:37 20
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    产品描述
    电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴反应的影响,效果较好。 电化学抛光过程分为两步: (1)宏观整平 溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra>1μm。 (2)微光平整 阳化,表面光亮度提高,Ra<1μm。
    化学抛光,快速方便,经济,光亮度很好,用法:在滚筒中,用金属清洗液”按1:20的比例加90度热水,加入需抛光的工件,滚动5-15分钟,把油污清洗干净;将抛光液按1:20—50的比例,加水配成工作液,振动抛光或滚动抛光,时间约15分钟,清水冲净,离心甩干或风干、晾干。
    东坑模具镜面抛光厂
    半精抛主要使用砂纸和煤油。油石作业结束后是砂纸作业,砂纸作业时,要注意模仁的圆边、圆角和桔皮的产生。所以油石流程尽量做到细加工。 砂纸抛光的重点。砂纸配合较硬的木棒像油石作业一样约70度角交叉地进行研磨,一面砂纸研磨次数约10次~15次。如果研磨时间过长,砂纸的研磨力会减低,这样就会导致加工面出现不均匀现象(这也是产生橘皮的原因之一)。
    东坑模具镜面抛光厂
    在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同,严格来说,模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由于电解抛光、流体抛光等方法很难控制零件的几何度,而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求,所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。
    东坑模具镜面抛光厂
    精抛主要使用研磨膏。若用抛光布轮混合研磨粉或研磨膏进行研磨的话,则通常的研磨顺序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的研磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下的发状磨痕。接着用粘毡和研磨膏进行抛光,顺序为1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。 精度要求在1μm以上(包括1μm)的抛光工艺在模具加工车间中一个清洁的抛光室内即可进行。若进行较加精密的抛光则必需一个洁净的空间。灰尘、烟雾,头皮屑和口水沫都有可能报废数个小时工作后得到的高精密抛光表面。
    抛光时,高速旋转的抛光轮(圆周速度在20米/秒以上)压向工件,使磨料对工件表面产生滚压和微量切削,从而获得光亮的加工表面,表面粗糙度一般可达Ra0.63~0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时,可对光亮表面消光以改善外观。
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