箱式气氛炉用于材料的气氛(氮气)烧结实验,是一种、节能、环保新型电炉,该设备具有特的设计技术,外形美观,结构合理,操作简单方便。产品广泛应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室,供化学分析、物理测定,以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。箱式气氛炉主要用途:适用于科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。主要用于高温精密退火、微晶化、陶瓷釉料制备、模具退火、粉末冶金、塑胶粉沫实验、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切做高温工艺要求的热处理。箱式气氛炉使用时需要注意:不可在酸、碱、盐等腐蚀性、挥发性气氛中使用。电炉和控制器必须在没有导电尘埃。
气氛炉日常中应该如何进行保养操作:
1、定期检查各接线头接触是否良好。
2、根据工艺设定温度,通电加温、保温。
3、通过调查流量和控制出水口温度在40℃cgh。
4、车间须配备1/2管以水源后力达0.2MPa。
5、接通充气口充入CO2及其它保护气体,当气氛炉压力表指示在0.02~0.04MPa时,停止充气。
6、保持炉膛清洁,对炉内的金属氧化物,炉渣和杂质等应及时清除。装卸工件时应谨慎,以防碰坏硅钼棒。
7、当炉温升高,应随时注意,压力长,间断打开放气阀门,使炉胆内的压力在0.1MPa以下,这时胆的油烟等杂质可随之排出。
8、硅钼棒碱、碱金属、硅酸及硼化合物在高温下对它能起腐蚀作用,水蒸气对它有强烈的氧化影响,氢及含有大量氢的气体在高温时会分解硅钼棒,使用时必须严加注意。
9、气氛炉实行光亮退火,在升温时打开放气阀,随后充入保护气体,流量由小变大,当气氛炉炉内压力为正压时,即关闭全部阀门,此工艺应经工艺试验,
10、使用时不得**过额定功率,能正确的安装与保养吗气氛炉炉温不得**过高使用温度。禁止将潮湿工件装入炉膛内,含有过高水份的被加热工件应预先烘干。
产品特点:
1、真空气氛炉以硅碳棒为加热元件,炉体采用双层炉壳结构,双层风冷系统,可以快速升降温,炉壳表面温度低;
2、炉门、炉**采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、口、抽真空口。
3、炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成,节能50%,加热元件采用硅碳棒。
4、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能,该控制系统温度显示精度为 1℃,温场稳定度±5℃,升温速率1~20℃可任意置。
5、可以通氢气、氩气、氮气等其他气体,并能预抽真空,真氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成,安全可靠,符合国家标准。
适用范围:
真空气氛炉满足于不同工艺实验而制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室,供化学分析、物理测定,以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。
一、产品名称:箱式气氛保护实验炉。
二、用途:用于材料的气氛(氮气)烧结实验。
三、气氛箱式炉技术指标:
1.额定温度:1350℃。
2.常用温度: 1300℃。
3.炉膛尺寸:400×300×300 mm(L×W×H)。
4.有效工作尺寸:300×260×260 mm(L×W×H)。
5.加热方式:左右加热。(暗火加热)
6.温度仪表:可编程序控制(40段程序)。
7.控制方式:可控硅移相调压。
8.炉温稳定度:±1℃(以仪表显示为准)。
9.均匀性:在有效工作尺寸内±5℃。
10.炉门密封:水冷却套、硅橡胶密封。
11.气氛控制:气体流量计+减压阀
12.功率:12kw
技术参数:
产品名称 1200℃实验气氛炉
产品型号 AFD-A1200-12
炉膛有效尺寸 300x200x200mm
正常工作温度 1100℃
工作温度 1200℃
炉膛材料 氧化铝多晶纤维
控温方式 宇电数显 智能化30段可编程控制
密封系统 双层炉壳真空,炉门采用高温硅橡胶密封。炉膛有进气口、口可以通氩气、氮气等气体,可抽真空。
控温精度 ±1℃
温控保护 具有**温和断偶保护功能
加热速率 0~20℃/分
加热元件 掺钼合金加热丝
工作电压 AC 220V 单相 50HZ (电路电压用户可选择定制)
大功率 6KW
温度测试元件 K型热电偶测温
毛重 150KG
炉体结构可选 立式、一体式
开门方式可选 侧开
提供相关配件 配1升真空泵
售后服务 12个月质保、除加热原件,保修
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