本装置可广泛用于电子、半导体、冶金、石油、化工及玻璃等需要高纯的有关科研和生产部门。
低温吸附从电解氢或纯度为99.9%的工业原料,可以制取纯度为99.999-99.9999%的高纯氢和超纯氢,一般用两塔流,一塔吸附,另一塔再生、周期定时切换,连续工作。
钯膜扩散法,在一定温度下、氢分子在钯膜一侧离解成氢原子,溶于钯并扩散到另一侧,然后结合成分子经一级分离可得到99.99-99.9999%纯度的氢,钯合金纯化工艺,对原料气中的氧、水、重烃、硫化氢,烯烃等的含量要求很严,氧会在钯合金膜表面发生氢氧催化反应,反应产的大量热,使扩散室中钯合金膜局部过热受损,水·硫化氢·烯烃·重烃会使钯合金表面重毒,进入钯膜之前,氧降至0.1PPm,水和其它杂质量降到1PPm以下,钯膜的渗透压力,通常膜前1.4-3.45Mpa,膜后压力448-690Kpa。由于钯属于贵金属、本法只适于较小规模且对纯度要求很高的场合使用。
自然界中的氢总是以其化合物如水、碳氢化合物等形式存在,因此,在制备氢时不可避免地带有杂质。中带有杂质,带来了隐患,容易发生爆炸,这要求对原料进行纯化。氢的纯化是指利用物理或化学的方法,除去中杂质的方法总称。随着半导体工业、精细化工和光电产业的发展,半导体生产工艺需要使用99.999%以上的高纯氢。但是工业上各种制氢方法所得到的纯度不高,为满足工业上对各种高纯氢的需求,必须对进行进一步的纯化
金属氢化物法
生产纯度99.999%高纯氢,利用贮氢合金对氢的选择性,生成金属氢化物,氢中的其它杂质浓缩于氢化物之外,随着废气排出.金属氢化物分离放出.从而使纯化.常用两个四个联合起来连续工作。工艺上包括吸氢和放氢,低温高压吸氢、高温低压放氢。
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