桌面式小型溅射仪

桌面式小型溅射仪KTZ1650PVD
传统的溅射技术的工作原理是：在高真空的条件下，入射离子（Ar+）在电场的作用下轰击靶材，使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面，沉积在基片表面形成薄膜。但是，电子会受到电场和磁场的作用，产生漂移，因而导致传溅射效率低，电子轰击路径短也会导致基片温度升高，为了提高溅射效率，在靶下方安装强磁铁，中央和周圈分别为N、S极。电子由于洛伦兹力的作用被束缚在靶材周围，并不断做圆周运动，产生更多的Ar+轰击靶材，大幅提高溅射效率，如图所示，采用强磁铁控制的溅射称为磁控溅射。


桌面式小型溅射仪KTZ1650PVD厂家供应技术参数；
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
溅射电源
直流溅射电源
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率
≤1000W
输出电压电流
电压≤1000V  电流≤1A
真空
机械泵 ≤5Pa（5分钟）   分子泵≤5*10^-3Pa
溅射真空
≤30Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
样品台
可旋转φ62  （可安装φ50基底）
样品台转速
8转/分钟
样品溅射源调节距离
40-105mm
真空测量
皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa）
预留真空接口
KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口