小型溅射仪郑科探

小型溅射仪郑科探KT-Z1650PVD

离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

磁控溅射优点
（1）沉积速率快，沉积效率高，适合工业生产大规模应用；
（2）基片温度低，适合塑料等不耐高温的基材镀膜；
（3）制备的薄膜纯度高、致密性好、薄膜均匀性好、膜基结合力强；
（4）可制备金属、合金、氧化物等薄膜；

小型溅射仪郑科探KT-Z1650PVD厂家供应技术参数；
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
溅射电源
直流溅射电源
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率
≤1000W
输出电压电流
电压≤1000V  电流≤1A
真空
机械泵 ≤5Pa（5分钟）   分子泵≤5*10^-3Pa
溅射真空
≤30Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
样品台
可旋转φ62  （可安装φ50基底）
样品台转速
8转/分钟
样品溅射源调节距离
40-105mm
真空测量
皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa）
预留真空接口
KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口