物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
从被沉积物质的气化方式看,真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等;溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发,而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子;离子镀可以分为蒸发式或者溅射式,高反射反光杯厂家价格,蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等,溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供,反应物沉积在基片上。
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
靶基距:靶基距是影响成膜速率的重要因素之一,随着靶基距增加,被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多,同时等离子体密度也减弱,动能减少,沉积速率降低,但膜层外观较好。靶基距太小,沉积太快,工件温升大,膜层外观差。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,这是保证膜色调纯正的重要因素之一。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠近发热棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。
离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。
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