• 供应蚀刻/开发/清洗全套系统

    供应蚀刻/开发/清洗全套系统

  • 2011-08-31 10:40 114
  • 产品价格:面议
  • 发货地址:包装说明:不限
  • 产品数量:不限产品规格:EDC-100
  • 信息编号:8320992公司编号:292134
  • 韩琳 经理
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    相关产品: 供应蚀刻/开发/清洗
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    产品描述
    蚀刻/开发/清洗全套系统 (EDC-100系列)
    •单晶圆蚀刻旋转涂覆机;
    •**聚丙烯NPP材质或特富龙材质 ; 
    •与镀膜相对应,本系统专为蚀刻,开发及清洗过程而 设计;
    •针对许多混合水试剂的应用提供的解决方案;
    •可以和650控制器,SPIN3000软件配套使用
    
    EDC 系统
    这是一种灵活,*和实惠的研发工具,EDC 系列常被 应用在以溶剂和水为基础的处理过程:蚀刻-清洗-干燥 ,开发-冲洗-干燥,以及利用溶剂和水的清洗。其旋转 涂敷机部分,具有多种板载滴胶阀的零孔隙度特富龙流 体路径等特点,干净的ECTFE圆顶盖使用户能够实时观 察过程的*运行,记事是每一单步处理过程模式也可 以(Laurell *有的性能)。
    
    EDC 系统具有可编程阀,它可以使单注射器试剂滴胶按 照蚀刻,开发和清洗应用的要求重复进行,如冲洗(通 常是去离子水或溶剂),然后干燥(通常是氮气)等较 后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在 *干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的 给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。本系统还有 可选择的动态线性或径向滴胶的特性。虽然在这些过程 中常采用非真空转头,该系统仍然具备真空下压能力。
    
    当边缘控制型或真空型转头附上称底时,门插销、门锁 和电气联锁为此提供多重保护,也包括大容积的废液和 废气排出口。
    一般特点:
    •型号8 系列为200毫米晶圆设计和15个系列为300毫米 晶圆设计
    •数码控制处理器
    •**结实的聚丙烯材料NPP,并带连锁门
    •清晰可视的ECTFE圆顶盖子
    •特氟隆材质的控制阀
    •可调节的氮气扩散处理装置
    •可调降流式排气及排水(含10’ 柔性导管)装置
    •电动双绝缘和**载保护
    •*门联锁(不允许旋转和试剂滴胶过程中打开处理 腔)
    •*门闭锁(需要特别按键才能打开处理腔)
    •*门锁(当程序正在运行或运行结束后转头仍在旋 转时,处理腔无法打开。)
    
    一些可供选择:(参照具体配置要求)
    •不锈钢压力容器
    •双重保护的ECTFE包裹不锈钢压力容器(通常为单一4 升瓶)
    •多重输出注射器
    •英制或公制尺寸非真空晶圆转头
    •带微型支架的非真空转头
    •真空转头
    •真空转接器(为小至3毫米小片称底设计的)
    •还可提供其他一些转头,可根据样品或具体的尺寸, 包括厚度和所有公差要求来自定义。
    
    

    迈可诺技术有限公司是一家致力于光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,在中国大陆设有内地营销服务中心,**经销欧美日韩***实验室光电半导体化工仪器设备,零附件,试剂耗材,对中国国内广大客户提供*的产品咨询和技术销售服务。

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    主要经营旋涂仪。

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