光明真空涂层

纳米粉体材料具有以下的优良性能：小的粒径、大的比表面积和高的化学性能，可以显著降低材料的烧结温度、节能能源；使陶瓷材料的组成结构致密化、均匀化，改善陶瓷材料的性能，提高其使用可靠性；可以从纳米材料的结构层次（l～100nm）上控制材料的成分和结构，有利于充分发挥陶瓷材料的潜在性能。
复杂的形状都可以处理：如深孔、内管、细缝等。 CVD的优点：①镀膜温度太高，对基材和反应设备的耐热性要求很高，很多工件难以承受； ②高温使基材尺寸变化和变形严重，故适于精密度高的工件； ③对于要求工件局部镀膜，难以实现； ④活泼性气体源的使用，制程中有**、毒性气体泄漏等隐患，且对环境有污染。 TD简介（Thermal Diffusion Coating Process——热扩散法碳化物覆层处理）（1）在空气炉或盐槽中放入一个耐热的坩埚，将硼砂放入坩埚加热熔化至800~1200℃，然后加入相应的碳化物形成粉末（如钛、钡、铌、铬），再将钢或硬质合金工件放入坩埚中浸渍保温1~2小时，加入元素将扩散至工件表面并与钢中的碳发生反应形成碳化物层（如：VC—碳化钒；CrC—碳化铬），所得到的碳化物层具有很高的硬度和耐磨性。（2）TD*主要适合于以下铬钢的工件。

凝聚相合成（溶胶一凝胶法）：是指在水溶液中加入**配体与金属离子形成配合物，通过控制PH值、反应温度等条件让其水解、聚合，经溶胶→凝胶而形成一种空间骨架结构，再脱水焙烧得到目的产物的一种方法。此法在制备复合氧化物纳米陶瓷材料时具有很大的优越性。

从纳米粉体制成块状纳米陶瓷材料，就是通过某种工艺过程，除去孔隙，以形成致密的块状纳米陶瓷材料，而在致密化的过程中，又保持了纳米晶的特性。

不同的镀膜温度镀的薄膜的特性会有些许差异，用TiN（氮化钛）举例说明：a． 颜色：高温镀的就会较金黄、光亮；低温镀的就会相对淡一些。 耐磨性：低温镀的相对于高温镀的耐磨性要差一些。 如何选择回火温度 ①无论何种材料，选择不同的回火温度所得到的硬度值一般是不一样的。 ②如果在硬度、韧性等基本要求都可以满足的情况下，请尽量选择较高的回火温度，以便于我们镀膜处理可以选择较高的温度，以达到较佳的效果。
电镀是一种电化学过程，也是一种氧化还原过程.电镀的基本过程是将零件浸在金属盐的溶液中作为阴，金属板作为阳，接直流电源后，在零件上沉积出所需的镀层。例如镀镍时，阴为待镀零件，阳为纯镍板，在阴阳分别发生如下反应： 阴(镀件)：Ni2++2e→Ni (主反应) 2H++2e→H2↑ (副反应) 阳(镍板)：Ni-2e→Ni2+ (主反应) 4OH-－4e→2H2O+O2 (副反应)