稀土抛光粉的应用
由于系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能,所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用,如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。
高系稀土抛光粉,主要适用于精密光学镜头的高速抛光。实践表明,该抛光粉的性能优良,抛光效果较好,由于价格较高,国内的使用量较少。
稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。
对于一定组分和加工工艺的抛光粉,平均颗粒尺寸越大,则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下,颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速度。相反地,东莞稀土抛光粉,如果抛光粉颗粒平均粒度较小,则磨削量减少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,标准抛光粉一般有较窄的粒度分布,太细和太粗的颗粒很少,无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面,而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。
主要指标:产品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm(或粒度为200目~300目),稀土抛光粉生产,晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉()。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)为原料,以化学方法预处理得稀土盐溶液,稀土抛光粉价格,加入中间体(沉淀剂)使转化成w(CeO2)=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为:
原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备:氧化槽,优溶槽,酸溶槽,稀土抛光粉用什么做的,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。
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