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“真空镀膜”是一种物理沉积现象。即在真空状态入气,靶材受到气撞击,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的仿金属表面层。
1、适用材料:
(1)很多材料可以进行真空电镀,包括金属,软硬塑料,复合材料,陶瓷和玻璃。
(2)自然材料不适合进行真空电镀处理,工程车辆反光杯注塑加工,因为自然材料本身的水分会影响真空环境。
2、工艺成本:
真空镀膜过程中,工件需要喷涂,装载,卸载和再喷涂,所以人力成本相当高,但是也取决于工件的复杂度和数量。
各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶,以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高,制作材料的选择范围也大大扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物,都可以气相沉积各种金属膜和介质膜,不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。
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